*注射液納米剪切機
*注射液又稱釓噴酸葡胺注射液,主要活性成分:釓噴酸雙*的無菌水溶液。含釓噴酸雙葡胺C28H54GdN5O20應(yīng)為標示量的95.0~105.0%。性狀:無色或幾乎無色的澄明液體。旋光度取本品,依法測定旋光度應(yīng)為-4.7°~-5.5°。
【*注射液納米剪切機】
*注射液納米剪切機采用德國*的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動技術(shù),將德國*的膠體磨技術(shù)與德國*的超高速分散機技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。轉(zhuǎn)速zui高可達14000rpm,線速度zui高可以44m/s。設(shè)備擁有很強的研磨分散能力。
CIK高剪切膠體磨。NK2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CRS2000系列與同類設(shè)備的對比:
1、發(fā)熱問題。同類設(shè)備在加工過程中,高粘物料進入腔體后,因背壓力大而輸送效果差,導(dǎo)致物料在設(shè)備腔體中停留時間過長而導(dǎo)致嚴重發(fā)熱。CRS2000系列設(shè)備在確保效果的基礎(chǔ)上,減小了背壓阻力,提高了輸送能力,減少了停留時間,降低了物料發(fā)熱的狀況。
2、多層多向剪切分散。同類設(shè)備定、轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級多層的結(jié)構(gòu)只是單純的重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象。CRS2000系列定、轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切的概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向的剪切分散,杜絕短路現(xiàn)象,超細分散更加*。
CIK 2000系列在線設(shè)備的其他優(yōu)勢:
· 低噪聲標準
· 提高泵送、混合和分散效果
· 通過皮帶驅(qū)動,調(diào)速簡便。
· 立式設(shè)計,可自排空物料
· 由于集裝式設(shè)計,采用抗腐蝕材料的優(yōu)質(zhì)密封件,保養(yǎng)維修簡單。
· 高品質(zhì)表面光潔度符合FDA / EHEDG的衛(wèi)生要求
· 所有設(shè)備都有CIP/SIP能力
· 占地面積小
· 可以根據(jù)客戶要求提供防爆性能(ATEX)
· 可以根據(jù)客戶要求定制高品質(zhì)處理的表面和特殊材料
選型表
| 標準流量(H2O) | 輸出轉(zhuǎn)速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 |
型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
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CRS 2000/4 | 300-1,000 | 20000 | 44 | 2.2 | DN25/DN15 |
CRS 2000/5 | 1,000-1.5000 | 10,500 | 44 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
CRS 2000/10 | 3,000 | 7,300 | 44 | 22 | DN50 / DN50 |
CRS 2000/20 | 8,000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80 /DN 65 |
CRS 2000/30 | 20,000 | 2,850 | 44 | 75 | DN150 /DN 125 |
CRS 2000/50 | 40,000 | 2,000 | 44 | 160 | DN200 /DN 150 |