熱熔膠高速均質(zhì)乳化機(jī),熱熔膠高剪切乳化機(jī),熱熔膠高剪切分散乳化機(jī)是從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)成熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復(fù),zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。
公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo),張猛。
利用可聚合性單體和交聯(lián)劑作為硅的研磨介質(zhì),對(duì)納米硅表面進(jìn)行疏水化處理,然后加入炭黑及添加劑,通過高速剪切分散將納米硅研磨液分散在*的水溶液中形成O/W型乳液,通過微懸浮聚合,得到硅/高分子復(fù)合微球,把納米硅固定在高分子微球內(nèi)部,然后進(jìn)行離心分離、干燥、高溫?zé)崽幚?,得到鋰離子電池用硅碳復(fù)合負(fù)極材料
熱熔膠高速均質(zhì)乳化機(jī)的分散效果 影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,切可公司在CRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出CRX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。
設(shè)備型號(hào)表:
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 Rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
CRS2000/4 | 300-1,000 | 14,000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
CRS2000/5 | 1,000-1,500 | 10,500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
CRS2000/10 | 3,000 | 7,300 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
CRS2000/20 | 8,000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
CRS2000/30 | 20,000 | 2,850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
CRS2000/50 | 40,000 | 2,000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。