反滲透+EDI 制程工業(yè)用純水機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)
VGT-4000L/H-2RE
反滲透+EDI 制程工業(yè)用純水機(jī)設(shè)備用途
本純水系統(tǒng)產(chǎn)水能力為4T/H,主要用于光學(xué)玻璃、半導(dǎo)體、精密零件的清洗。
反滲透+EDI 制程工業(yè)用純水機(jī)主要技術(shù)指標(biāo)
RO 反滲透≤3-5μS/cm;
EDI 產(chǎn)水電阻率≥15-16MΩ·cm;
拋光混床產(chǎn)水電阻率≥17-18MΩ·cm;
用水點(diǎn)的供水壓力為0.2-0.4MPa
純水設(shè)備的組成及描述
本系統(tǒng)主要由以下部分組成:
1)、預(yù)處理單元:原水箱、原水泵、石英砂過濾器、活性碳過濾器、保安過濾器等組成,用于除去原水中的懸浮物及膠體及吸附原水中的有機(jī)物、部分色素和有害物質(zhì),降低化學(xué)耗氧量COD。
2)、反滲透單元:高壓泵、反滲透裝置、中間水箱、PH 值調(diào)節(jié)、純水箱及反滲透膜清洗系統(tǒng)等組成。本單元脫鹽率可達(dá)到98%以上,并能將水中的細(xì)菌,膠體及大分子量的有機(jī)物大部分電解質(zhì)去除。
3)、EDI 單元:純水泵、TOC 脫除器、精密過濾器、EDI 連續(xù)性電除鹽、EDI 電源等組成。用于進(jìn)一步去除水中雜質(zhì)、殘留鹽份及水中的金屬離子。
4)、拋光混床單元:4噸拋核子級(jí)樹脂
5)、供水單元:紫外線殺菌、精密過濾器組成,將純水輸送到使用點(diǎn)。
6)、電控及儀表單元:主要由電器控制柜(EDI 電源)、儀表儀器顯示盤、在線水質(zhì)檢測(cè)顯示器、PLC邏輯控制及觸摸屏操作盤等組成。完成本系統(tǒng)的自動(dòng)化控制、參數(shù)設(shè)置、信息儲(chǔ)存。
純水系統(tǒng)說明
本系統(tǒng)采用 PLC(可編程控制器)全自動(dòng)控制。設(shè)備配置測(cè)量?jī)x表,能直觀的顯示各級(jí)的壓力和流量,觸摸屏控制面板能夠直觀顯示兩級(jí)反滲透出水的電導(dǎo)率、EDI 出水的電阻率。采用三菱PLC 控制設(shè)備運(yùn)行情況,有過載、超壓、缺水等故障保護(hù)和報(bào)警;設(shè)備總進(jìn)水、總產(chǎn)水、總排水、原水電導(dǎo)率、一級(jí)、二級(jí)反滲透電導(dǎo)率及EDI 出水電阻率數(shù)值等能在設(shè)備主控界面上實(shí)時(shí)顯示并存儲(chǔ)。