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HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 真空烘箱

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
  • 品       牌雋思
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間2022/10/1 9:15:37
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)3405
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上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“雋思儀器”)是一家專(zhuān)業(yè)從事儀器設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售及服務(wù)的企業(yè)。主要生產(chǎn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備、環(huán)境模擬儀器設(shè)備、線(xiàn)纜試驗(yàn)機(jī)、橡塑試驗(yàn)檢測(cè)設(shè)備、黑蒜設(shè)備等的高新技術(shù)型企業(yè),具有很強(qiáng)的自主開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)能力,服務(wù)于電子、電力、通訊、環(huán)保、農(nóng)業(yè),建筑,節(jié)能等行業(yè);多年來(lái),公司以“真摯的服務(wù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)”為宗旨,為國(guó)內(nèi)外廣大用戶(hù)提供了周到的售前、售中、售后服務(wù)。贏(yíng)得了國(guó)內(nèi)外客戶(hù)的*好評(píng),更為我們業(yè)務(wù)的快速發(fā)展奠定了一定的基礎(chǔ)。我們的服務(wù)也更精益求精,更完善!
 雋思儀器主要業(yè)務(wù)有HMDS預(yù)處理系統(tǒng),HMDS烘箱,潔凈烤箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦洌邷責(zé)o氧烘箱,真空無(wú)氧烘箱,無(wú)塵無(wú)氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),快速高低溫氣流儀,超低溫試驗(yàn)箱,高低溫試驗(yàn)箱,高低溫交變濕熱箱定做,HMDS真空涂膠烘箱,低溫脆性檢測(cè)儀,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,導(dǎo)體直流電阻測(cè)試儀,電線(xiàn)電纜檢測(cè)儀器,真空烘箱,黑蒜試驗(yàn)機(jī),橡塑檢測(cè)試驗(yàn)機(jī)等。
    不斷追求技術(shù)進(jìn)步、提升專(zhuān)業(yè)服務(wù)能力,做一個(gè)專(zhuān)業(yè)的儀器設(shè)備供應(yīng)商是我們的發(fā)展目標(biāo)。企業(yè)內(nèi)部實(shí)施了CRM、ERP項(xiàng)目管理,在產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、質(zhì)量控制、集成供應(yīng)鏈、人力資源管理、財(cái)務(wù)管理等諸多方面取得了長(zhǎng)足發(fā)展。同時(shí)建立了標(biāo)準(zhǔn)化的服務(wù)流程,形成了覆蓋全國(guó)的快速服務(wù)網(wǎng)絡(luò),以盡心盡責(zé)的服務(wù)理念和完備的技術(shù)得到用戶(hù)的*稱(chēng)贊。我們將珍視每一次與您合做的機(jī)會(huì),以飽滿(mǎn)的熱情、真誠(chéng)的服務(wù)與您共創(chuàng)燦爛的未來(lái)!





HMDS烘箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦?,高溫?zé)o氧烘箱,PI烤箱,真空無(wú)氧烘箱,無(wú)塵無(wú)氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),超低溫試驗(yàn)箱
功率 2.5kw 工作電壓 220v
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng) 真空烘箱 產(chǎn)品信息

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)

通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅胺)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

 

1. 工作室尺寸 300×300×300,450×450×450,550×650×550(mm)可自定

2.材質(zhì)外箱采用304不銹鋼/冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼

3.溫度范圍  RT+10-250℃

4. 溫度分辨率  0.1℃

5. 溫度波動(dòng)度  ≤±0.5℃

6. 真空度  ≤133pa(1torr)

7. 潔凈度  class 100,適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

8.真空泵  旋片式油泵/干泵

9.控制儀表  人機(jī)界面

10.擱板層數(shù)  2層

關(guān)鍵詞:真空泵 人機(jī)界面
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