First-Nano System GmbH
2003年 創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
2015年 上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負責中國區(qū)業(yè)務(wù)
2018年 深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國南方區(qū)市場
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產(chǎn)品范圍：
薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
Harrick Plasma 高功率擴展型等離子清洗機
與擴展型一樣具有雙倍的清洗速率，高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。
Harrick PDC-HP高功率擴展型等離子清洗機
PDC-001-HP (115V); PDC-002-HP (230V)
主要特點：
緊湊臺式設(shè)備、沒有RF放射、符合CE安全標準。
功率為低、中、高三檔可調(diào)。
低檔功率相當于PDC-2 擴展型等離子清洗機的高檔功率設(shè)置
清洗腔：長6.5英寸，直徑6英寸的耐熱玻璃腔體 , 腔蓋可拆卸
帶有視窗的鉸鏈門
自動風扇冷卻
集成真空泵開關(guān)
1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力；
整機尺寸：11英寸H × 18英寸W × 9英寸D；
重量：37 lbs；
選配件
石英等離子清洗腔；
氣體流量混合器；
真空泵；
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