半導體芯片清洗超純水設備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體芯片清洗超純水設備制備工藝：
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝)
半導體清洗超純水設備應用場合：
☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
☆半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
☆實驗室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品
廈門源為水處理設備有限公司(www.xmywwater.com)，專業(yè)從事水處理設備集全系統(tǒng)工程的設計、制造、安裝、服務于一體綜合性環(huán)保企業(yè)。竭誠為廣大新老客戶提供專業(yè)完善的產(chǎn)品和服務。
專注于生產(chǎn)經(jīng)營膜分離水處理系統(tǒng)（反滲透RO、納濾NF、超濾UF、微濾MF）、EDI超純水設備、離子交換設備、鍋爐軟化水設備、中水回用設備、工業(yè)廢水處理設備、游泳池循環(huán)設備、井水除錳鐵、實驗室污水處理設備、實驗室用水、灌裝設備、直飲水、不銹鋼組合水箱等。
公司主要產(chǎn)品及應用領域
*食品用水：飲用純凈水、礦泉水、飲料、釀酒等行業(yè)
*工業(yè)純水：半導體、集成電路、電鍍行業(yè)、化工、印染等行業(yè)
*醫(yī)藥用水：醫(yī)用輸液、藥劑、生化制品等超純水
*軟化水：鍋爐、空調(diào)、冷凝器、冷卻水等
*分質(zhì)供水：住宅小區(qū)、機關、學校、賓館等分質(zhì)供水系統(tǒng)
*電廠用水：用于鍋爐給水
*花卉用水：用于育苗、組培、營養(yǎng)液
*污水處理：工業(yè)污水、生活污水、醫(yī)療污水、實驗室污水等
*灌裝設備：大桶水灌裝、小瓶水灌裝設備、袋裝水灌裝設備
*殺菌設備：臭氧殺菌、紫外線殺菌、二氧化氯發(fā)生器、空氣凈化設備
專注于生產(chǎn)經(jīng)營膜分離水處理系統(tǒng)（反滲透RO、納濾NF、超濾UF、微濾MF）、EDI超純水設備、離子交換設備、鍋爐軟化水設備、中水回用設備、工業(yè)廢水處理設備、游泳池循環(huán)設備、井水除錳鐵、實驗室污水處理設備、實驗室用水、灌裝設備、直飲水、不銹鋼組合水箱等。
半導體芯片清洗超純水設備 超純水機 產(chǎn)品信息
