HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)產(chǎn)品概述：

HC-CMS-2000DN氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（NH3）基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)原理。系統(tǒng)包括預(yù)處理、氣體分析模塊和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。被測(cè)氣體經(jīng)過(guò)高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進(jìn)入高溫氣體分析模塊（TDLAS技術(shù)）分析測(cè)量。有效的解決了銨鹽低溫結(jié)晶堵塞流路，低溫冷凝水析出溶解NH3導(dǎo)致的測(cè)量精度偏低，原位式系統(tǒng)高粉塵衰減光路導(dǎo)致無(wú)法測(cè)量等技術(shù)難題。

HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格：

測(cè)量技術(shù)：可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)

量程范圍：0～20μmol/mol（可定制）

示值誤差：≤±1%F.S.

零點(diǎn)漂移：≤±1%F.S./7d

量程漂移：≤±1%F.S./7d

響應(yīng)時(shí)間：≤120s

模擬接口：2路，4-20mA 輸入

通訊接口：RS485/GPRS

供電：（220±15%）VAC，5000W

尺寸： 600mm×285mm×1200mm

產(chǎn)品特點(diǎn)：

“單線光譜”吸收技術(shù)避免背景氣體干擾、檢測(cè)下限低、量程漂移小

220℃以上伴熱避免銨鹽結(jié)晶及水份溶解吸收

自動(dòng)化程度高、維護(hù)量小

結(jié)構(gòu)緊湊、便于安裝

產(chǎn)品應(yīng)用：

適用于包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監(jiān)測(cè)和過(guò)程控制