痕量低濃度氮氧化物分析儀其核心部分是一個(gè)激光檢測(cè)裝置，其中的氦氖激光器可以發(fā)射一種安全的低功率單波激光到一個(gè)氣體測(cè)試腔內(nèi)。由于激光能量微弱，裝置內(nèi)部通過(guò)檢測(cè)腔兩端的反射鏡不斷進(jìn)行反射，將能量放大1000倍左右。光子與氣體分子發(fā)生碰撞后發(fā)生散射，產(chǎn)生一種不同于激光頻譜的光譜，而且不同分子散射出來(lái)的光譜是特定不相同的，這就是我們所稱(chēng)的“拉曼散射光譜”。檢測(cè)腔內(nèi)壁裝有8個(gè)光學(xué)濾波器和光電傳感器，用來(lái)吸收和檢測(cè)不同分子的特定光譜頻率，從而得到8種不同待測(cè)氣體成分含量。根據(jù)這種原理，每種待測(cè)氣體的含量都是通過(guò)直接測(cè)量得到的，不需要任何的導(dǎo)算；RLGA的檢測(cè)精度更高；反應(yīng)速度更快.

痕量低濃度氮氧化物分析儀

DLAS技術(shù)本質(zhì)上是一種光譜吸收技術(shù)，通過(guò)分析激光被氣體的選擇性吸收來(lái)獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于，半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬。因此，DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù)，半導(dǎo)體激光穿過(guò)被測(cè)氣體的光強(qiáng)衰減可用朗伯-比爾（Lambert-Beer）定律表述式得出，關(guān)系式表明氣體濃度越高，對(duì)光的衰減也越大。因此，可通過(guò)測(cè)量氣體對(duì)激光的衰減來(lái)測(cè)量氣體的濃度。

分析儀按照光學(xué)系統(tǒng)劃分，可分為雙光路和單光路兩種：

（1）雙光路：從兩個(gè)相同光源或一個(gè)精確分配的單光源，發(fā)出兩路彼此平行的光束，分別通過(guò)分析氣室后和參比氣室后進(jìn)入檢測(cè)器。

（2）單光路：從光源發(fā)出單束紅外光，利用切光裝置將紅外光調(diào)制成不同波長(zhǎng)的光束，輪流通過(guò)分析氣室進(jìn)入檢測(cè)器。

質(zhì)譜分析法是利用不同離子在電場(chǎng)或者磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)軌跡的不同，把離子按質(zhì)荷比分離而得到質(zhì)量圖譜，可以得到樣品的定性定量結(jié)果。質(zhì)譜儀按照常用的質(zhì)量分離器不同可分為掃描磁扇式磁場(chǎng)質(zhì)譜儀和四極質(zhì)譜儀，飛行時(shí)間質(zhì)譜儀等幾種類(lèi)型。目前工業(yè)應(yīng)用上通常采用的是掃描磁扇式質(zhì)譜儀。四極質(zhì)譜儀的靈敏度高，適合實(shí)驗(yàn)室或科學(xué)研究。掃描磁扇式的穩(wěn)定性和重復(fù)性較高，適合工業(yè)應(yīng)用。

不僅在一臺(tái)氣體分析儀器內(nèi)部具備一套化工工藝過(guò)程的同樣情況和條件，而且，有時(shí)在儀器前級(jí)的樣氣預(yù)處理部分（含取樣系統(tǒng)）也同樣是一套化工工藝過(guò)程。如遇到較復(fù)雜、較特殊的工藝技術(shù)條件的話，那么樣氣預(yù)處理系統(tǒng)所體現(xiàn)的化工過(guò)程還是非常復(fù)雜的，相當(dāng)于一個(gè)小化工廠的凈化處理工藝過(guò)程。由此可見(jiàn)，氣體分析的過(guò)程就是在了解并掌握整個(gè)化工過(guò)程系統(tǒng)條件的前提下，嚴(yán)格控制各種影響測(cè)定條件的因素，從而得到工藝及管理人員所需要的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。