制藥廠廢氣處理設(shè)備工藝流程簡(jiǎn)述
吸附-脫附單元完成生產(chǎn)線排出廢氣中有機(jī)溶劑的收集、吸附、脫附操作。
生產(chǎn)過程廢氣,先經(jīng)預(yù)處理裝置處理氣體中的一些高分子的物質(zhì)和空氣中的細(xì)小顆粒和水分,再經(jīng)冷卻器將溫度降至10℃以下(有低沸點(diǎn)二氯甲烷)。
經(jīng)處理后的廢氣進(jìn)入吸附-脫附單元,(共2組吸附罐,一吸一備/脫)有機(jī)尾氣被高性能活性碳材料吸附,空氣穿透吸附材料后排放至大氣。
被吸附的有機(jī)溶劑通過氮?dú)饷摳健C摳匠鰜淼挠袡C(jī)溶劑和氮?dú)饣旌蠚膺M(jìn)入由列管冷凝器組成的3級(jí)冷凝系統(tǒng)中進(jìn)行冷凝處理(一級(jí)冷凝器為節(jié)能目的,以初始熱氣加熱三級(jí)回流冷凝氣體回主循環(huán),同時(shí)以三級(jí)冷氣體冷卻一級(jí)氣體),二級(jí)冷卻溫度為循環(huán)常溫水。三級(jí)冷卻溫度為零下7-15度。
表 2 生產(chǎn)廢氣吸附-脫附單元流程簡(jiǎn)圖
每套吸附-脫附單元由2個(gè)吸附器組成,整個(gè)工藝過程由PLC 功能程序控制,自動(dòng)切換,交替進(jìn)行吸附、脫附、間歇4個(gè)工藝過程。
A | 吸附 | 脫附 | 冷卻 | 間歇 | ||
B | 脫附 | 冷卻 | 間歇 | 吸附 |
圖表 3 吸附器吸附PLC 時(shí)序圖示意
脫附過程中蒸汽為非直接接觸活性炭,通過加熱盤管內(nèi)部通入蒸汽,間接加熱罐體內(nèi)循環(huán)氮?dú)?,此過程為緩慢加熱,加熱溫度逐步增加。整個(gè)解析過程大概3-5小時(shí)。此過程全部為自動(dòng)化控制。間接加熱活性炭,結(jié)合外部的加熱器,只須控制蒸汽閥門,就可把溫度控制在一定的范圍。由于是間接加熱,不會(huì)產(chǎn)生大量的蒸汽與溶劑的混合廢水,蒸汽產(chǎn)生的水只是普通冷凝水,無須特殊處理。同時(shí)活性炭在脫附結(jié)束后,無須進(jìn)行干燥處理。
制藥廠廢氣處理設(shè)備配備副罐(濃縮罐),此罐不參與車間與設(shè)備間的吸附。在脫附過程中,采用的是大風(fēng)量循環(huán)加熱,使得活性炭床快速升溫,短時(shí)間內(nèi)富集濃度(可達(dá)100克/立方米以上),為了合理配備換熱器的大小,不能將此廢氣全部冷卻,只能截取一部分(約20%)的氣體進(jìn)行多道冷卻,冷卻后的氣體降溫至10度以下,濃度急劇降低(10克/立方米),中間的濃度差通過液體的形式自流至分離系統(tǒng)。整個(gè)脫附以自流液體的結(jié)束而結(jié)束,但此時(shí)的循環(huán)濃度依然很高,在此情況下冷卻活性炭,活性炭的殘留濃度會(huì)偏高。所有在冷卻活性炭以前,即使沒有自流液體產(chǎn)生的情況下,還要繼續(xù)加熱循環(huán)一段時(shí)間,冷卻后的氣體導(dǎo)入副罐,經(jīng)副罐吸附以后再回主罐。副罐的作用是保主罐的低殘留。副罐定期脫附。
脫附過程少量不凝氣體會(huì)進(jìn)入分離系統(tǒng),這部分氣體通過回氣管道回流再次進(jìn)入吸附系統(tǒng)。