產(chǎn)品簡介：2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2主要適用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀、VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀，該磁控濺射頭可安裝直徑為2"的靶材，適用靶材種類較廣，如金屬靶材（如金、銀、銅等材料）、絕緣靶材（如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等）、磁性靶材、非磁性靶材等。2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2配裝有環(huán)形NdFeB永磁體在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和薄膜在樣品表面分布的均勻性。該磁控濺射頭可與DC或RF電源配合使用來濺射不同種類的樣品。
產(chǎn)品型號 | 2英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-2 |
主要特點 | 1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。 2、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體，以得到較高的磁場強度和均勻分布。 3、磁體表面涂有保護層，以防止冷卻水的腐蝕，延長其使用壽命。 4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配。 5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作。 6、靶材更換較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、陽極護罩直徑：Ø3.5" 2、所用靶材：直徑2"（50.8mm），非磁性靶大厚度1/4"，磁性靶大厚度1/16" 3、磁鐵：NdFeB稀土永磁體 4、靶材利用率：30% 5、所需功率：DC大1000W，RF大500W 6、濺射電流：大3A 7、濺射電壓：100V-1000V 8、濺射時腔體真空度：5mtorr-100mtorr 9、濺射均勻性曲線： 10、水冷卻：水管外徑0.25"，流速0.8GPM，進水溫度<20℃ |
產(chǎn)品規(guī)格 |
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可選配件 | 1、循環(huán)水冷機，流量為16L/min，水箱容積為6L。 2、同時購買300W射頻發(fā)射器和2"磁控濺射頭時，本司贈送1個高真空快速接頭。接頭內(nèi)徑為0.75"，可將濺射 頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝孔直徑為1"，真空腔體的壁厚不得大于1"。 |
