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芯片清洗用超純水設備 半導體純水處理設備
關于超純水的規(guī)定，我們國家在 2016 年10月份發(fā)布，并在2017年5月實施了名為《儀器分析用高純水規(guī)格及試驗方法》的標準。超純水是指電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物。萊特萊德超純水設備具有出水連續(xù)、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便等優(yōu)點。EDI模塊不會產生酸堿廢液，因此不需要酸堿中和處理。EDI進水為二級反滲透產水，水質較好。即使經EDI系統(tǒng)脫鹽后，EDI濃水水質仍優(yōu)于一級反滲透產水，可回流至一級反滲透產水箱?？蛇B續(xù)工作，無需更換樹脂。自動化性能強，無需人工操作。此外，萊特萊德超純水設備廣泛應用于醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)。
芯片清洗用超純水設備 半導體純水處理設備
超純水設備采用了EDI技術、反滲透技術和深度脫鹽技術，產水水質符合國家GMP認證規(guī)定標準，而且還滿足了各種工業(yè)用水的不同需求，在工業(yè)生產行業(yè)中得到了重大貢獻。超純水設備應用的范圍非常廣泛，可適用于電子、半導體、線路板、集成電路、機密機械的生產和清洗，還可以應用在食品飲料行業(yè)中和飲用水的制取。設備的自動化程度高，安裝使用方便，運行穩(wěn)定。
萊特萊德超純水設備通過雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝，嚴格執(zhí)行國家環(huán)保政策，可確保處理后的水穩(wěn)定達標。超純水設備通常由多介質過濾器、活性炭過濾器等組成的預處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、EDI系統(tǒng)、拋光混床等構成主要工藝。與其他同類產品相比，具有很高的設備可靠性。
