高溫磁場退火爐
錦正茂實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 高溫磁場退火爐
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是有升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,高精度雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機(jī)組共同組成的一套反饋調(diào)節(jié)的加熱系統(tǒng)。
產(chǎn)品概述:
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錦正茂實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 高溫磁場退火爐
北京錦正茂科技有限公司生產(chǎn)的高溫真空磁場加熱爐系統(tǒng),是有升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,高精度雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機(jī)組共同組成的一套反饋調(diào)節(jié)的加熱系統(tǒng)。
該高溫磁場加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機(jī)械泵(干泵)先對真空腔體(樣品腔)進(jìn)行粗抽,達(dá)到可以開啟分子泵的極限真空時,在開啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取,達(dá)到客戶所需的真空度。打開軟件,通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值,通過閉循環(huán)反饋調(diào)節(jié),使設(shè)備內(nèi)樣品的溫度自動控制并穩(wěn)定在某一個溫度值,軟件可以按照用戶給定的實(shí)驗(yàn)條件完成實(shí)驗(yàn)。
磁場控制:用戶可以直接通過軟件設(shè)定所需要的磁場大小,由高精度高斯計讀取實(shí)際磁場值,再將實(shí)際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源,通過電源內(nèi)部軟件處理后,直接由控制高精度恒流電源的輸出電流,從而實(shí)現(xiàn)用戶所需要的磁場,并實(shí)時顯示在軟件上;
溫度控制:通過在軟件上人機(jī)交互界面直接設(shè)置所需要的溫度值,計算機(jī)軟件處理后指令到達(dá)高溫爐加熱控制器。控制器通過溫度傳感器(熱電偶)讀出樣品區(qū)的實(shí)際溫度值,并通過其內(nèi)部設(shè)置的模糊控制PID調(diào)節(jié)輸出電流的大小,總而使溫度值穩(wěn)定在某一精度范圍內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)用戶所需要的不同溫度。
真空環(huán)境:通過分子泵組獲得真空環(huán)境,由高真空全量程真空計顯示并監(jiān)控,并實(shí)時的將檢測結(jié)果傳遞給計算機(jī)。
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退火過程:在強(qiáng)磁場(或無磁)環(huán)境下對樣品進(jìn)行加熱,加熱到一定溫度(用戶需要自己設(shè)定)并保持在該溫度,再持續(xù)加一個磁場(可隨時變化),達(dá)到用戶的目的后,關(guān)閉磁場,關(guān)閉加熱環(huán)境,冷卻到室溫。
樣品環(huán)境:高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強(qiáng)磁場、高真空、高溫環(huán)境中。同時也可以單獨(dú)或任意組合這三種實(shí)驗(yàn)環(huán)境,滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求。
適應(yīng)范圍:需在高溫、高真空、強(qiáng)磁場環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。
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主要技術(shù)指標(biāo):
※ 真空室及主要零部件材質(zhì)均為304無磁不銹鋼;
※ 采用的真空獲得系統(tǒng)為分子泵組;真空測量為數(shù)顯全量程真空計;
※ 真空度及漏率:① 真空室極限真空度6′10-5Pa(冷態(tài));②漏率<10-11Pa.L/s,真空度隨著溫度變化,會出現(xiàn)波動,屬于正常情況;
※ 在室溫到900度,升溫速率優(yōu)于100K/min,高溫加熱溫度1000℃;控溫精度:±1℃;
※ 加熱時,加熱絲被封裝在石英管內(nèi),極大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染;
※ 匹配磁鐵電源:雙極性,穩(wěn)定度優(yōu)于50ppm/h,平滑過零無斷點(diǎn);
※ 匹配電磁鐵:長時間運(yùn)行穩(wěn)定度<±0.5Gs;
※ 冷卻方式:水冷。
樣品腔尺寸:
配備磁場: