本款產(chǎn)品專為有高溫微流變表征的用戶設(shè)計(jì)，溫度上限可達(dá)180℃。有研究人員利用傳統(tǒng)技術(shù)測試高溫流變時(shí)需要利用時(shí)-溫疊加的方法間接推算，而本產(chǎn)品允許用戶利用基于動(dòng)態(tài)光散射原理的擴(kuò)散波譜技術(shù)直接在不高于180℃的條件下直接測試樣品的微流變性能。
儀器相關(guān)配置參數(shù)如下：
※ 背散射和前散射兩種模式，提供完整的DWS解決方案，通過電子快門系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)兩種模式轉(zhuǎn)換；
※ 軟件功能強(qiáng)大，用以數(shù)據(jù)采集和分析，結(jié)合單多斑測量，用戶可自定義多腳本運(yùn)行，進(jìn)行在線微流變分析，可以得到粘彈模量、均方位移、平均光子自由程、蠕變?nèi)崃俊p耗角正切和平均粒徑；
※ 自動(dòng)測量得到平均光子自由程l*和吸收長度la。
※ 半導(dǎo)體激光光源，685nm，40mW，噪音小于0.5%，單模TEM00，相干長度＞1m，預(yù)熱時(shí)間15分鐘，激光路徑處于密閉空間，安全等級為1級（根據(jù)EN 60825-1/11.01標(biāo)準(zhǔn)）；
※ 兩個(gè)高檢測效率的單光子計(jì)數(shù)檢測器，量子效率＞65% @ 685nm，標(biāo)準(zhǔn)死時(shí)間20ns；
※ 雙通道快速多tau/線性相關(guān)器，最小采樣時(shí)間12.5ns；
※ 測試溫度范圍（4℃ - 180℃），在實(shí)驗(yàn)室溫度不高于23℃時(shí)溫控精度+/-0.02℃，露點(diǎn)以下測量時(shí)需接干燥空氣吹掃，RheoLab提供接口；
※ 儲(chǔ)存模量G'和損耗模量G"測量范圍1Hz-10MHz，彈性范圍：1Pa-50kPa；
※ 可測試1mPas以上的低粘度樣品；
※ 樣品池支架光程范圍1-10mm，可使用標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)池，使用1mm樣品池時(shí)樣品需求量降至150μL；
※ 儀器無需光學(xué)平臺(tái)，操作保養(yǎng)更加簡捷。
產(chǎn)品功能：
DWS RheoLab HT高溫型擴(kuò)散波譜儀采用了背散射和前散射技術(shù)，能夠在高溫條件下分析軟物質(zhì)的微流變以及超濃懸浮液的平均粒徑。
包括背散射和前向散射完整的DWS方法，采用雙池回波技術(shù)（EP 1720000 A1）的，用于非遍歷性樣品表征；利用回波技術(shù)，幾分鐘內(nèi)得到儲(chǔ)存模量G'和損耗模量G"，頻率上限可達(dá)10M Hz ；適用于＞1%的樣品濃度（和粒徑有關(guān)），透明樣品需加入示蹤粒子；可以測量穩(wěn)定性，老化性以及凝膠點(diǎn)等。
使用背散射技術(shù)測量平均粒徑，測量范圍：50nm-1μm；適用于顆粒濃度20%以下的牛頓流體體系，能獲得多分散性樣品的平均粒徑。
相關(guān)耗材：
1mm、2mm、5mm、10mm四種規(guī)格的樣品瓶；PS示蹤粒子；二氧化硅示蹤粒子。（需訂貨）
