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Nicomp 380 Z3000 納米粒徑與Zeta電位分析儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)蘇州微流納米生物技術(shù)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間2022/1/30 11:44:43
  • 訪問(wèn)次數(shù)470
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蘇州微流納米生物技術(shù)有限公司由海歸工程師創(chuàng)立, 地處蘇州工業(yè)園區(qū)生物納米科技園內(nèi)。公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)已有十余年國(guó)內(nèi)外均質(zhì)領(lǐng)域服務(wù)經(jīng)驗(yàn),一直與國(guó)外廠商保持緊密的合作關(guān)系。公司是美國(guó)BEE*中國(guó)區(qū)總代理,美國(guó)Genizer*亞洲區(qū)總代理。

  公司專(zhuān)業(yè)提供高壓微射流均質(zhì)機(jī)(納米均質(zhì)機(jī)),脂質(zhì)體擠出器及對(duì)射流金剛石交互容腔等配件。我們的設(shè)備廣泛應(yīng)用在制藥(注射制劑如*,*白蛋白等)、生物技術(shù)(細(xì)胞破碎提?。?、化妝品(細(xì)化透皮吸收)、精細(xì)化工(噴墨、添加劑等分散)、保健品(組分細(xì)化混懸)納米新材料分散(石墨烯剝離,納米氧化物松團(tuán))等領(lǐng)域。

均質(zhì)機(jī)
產(chǎn)品名稱(chēng):Nicomp 380 Z3000 納米粒徑與Zeta電位分析儀英文名稱(chēng):Laser optical particle sizing system其它名稱(chēng):納米粒度儀、Zeta電位分析儀產(chǎn)品型號(hào):Nicomp 380 Z3000產(chǎn)品品牌:PSS產(chǎn)品產(chǎn)地......
Nicomp 380 Z3000 納米粒徑與Zeta電位分析儀 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品詳情:

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀采用*的設(shè)計(jì)理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),充分有效地融合了動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù),即可以多角度(步長(zhǎng)0.9μm;)檢測(cè)分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布,又可以小角度測(cè)量Zeta電位。粒度測(cè)試范圍:粒度測(cè)試范圍:0.3 nm – 10 µm。

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀通過(guò)檢測(cè)分析膠體顆粒的電泳遷移率測(cè)量Zeta電位。Zeta電位是對(duì)顆粒之間相互排斥或吸引力的強(qiáng)度的度量,是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo),Zeta電位(正或負(fù))越高,體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過(guò)粒子之間的靜電排斥力來(lái)保持穩(wěn)定的,粒子之間的排斥力越大,粒子越不容易發(fā)生聚集,膠體也會(huì)越穩(wěn)定。NICOMP 380 Z3000結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)(DLS)和電泳光散射法(ELS),實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試納米粒子分布和Zeta電勢(shì)電位。

NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀.png


NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀 儀器參數(shù)

NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀 儀器參數(shù).png

選配件

NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀 選配件.png


自動(dòng)滴定儀

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀在增加自動(dòng)滴定模塊后,可以一次性使用同一樣品在不同PH值或不同離子濃度的條件下進(jìn)行一系列測(cè)試,實(shí)現(xiàn)了在等電點(diǎn)測(cè)試的技術(shù)難題。

相位分析光散射法PALS(Phase Analyze Light Scattering)技術(shù)

PSS 于 2004 年推出的 PALS 技術(shù),用相位(Phase)變化的分析取代原 先頻譜的漂移,不僅使 Zeta 電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高,而且突破了水相體系的限制,對(duì)油、有機(jī)物體系同樣能提供 Zeta 電位的分析。


NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀 特點(diǎn)

  1. 同機(jī)測(cè)試懸浮液體的粒徑分布以及ZETA電勢(shì)電位

  2. Zeta電位運(yùn)用了多普勒電泳遷移原理以及的相位分析散射法可以測(cè)試水相和有機(jī)相的樣品

  3. 檢測(cè)范圍寬廣,亞微米顆粒均可以被檢測(cè)

  4. 樣品測(cè)試量小

  5. 高辨析率

  6. 結(jié)果重現(xiàn)性好,誤差小于1%

  7. 100 % 樣品可回收利用

  8. 可搭載自動(dòng)滴定儀, 自動(dòng)稀釋器和自動(dòng)進(jìn)樣器

  9. 無(wú)須校準(zhǔn)

  10. 一次性進(jìn)樣,避免交叉污染樣品

  11. 可選配大功率激光發(fā)生器以及級(jí)APD雪崩二極管檢測(cè)器來(lái)檢測(cè)粒徑小于1nm的顆粒


應(yīng)用領(lǐng)域

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀廣泛適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。

1)磨料

磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

2)化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP SLURRY)

化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過(guò)程中的重要步驟。化學(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過(guò)程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì),對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行。

3)陶瓷

陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛,從磚瓦到生物科研材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過(guò)程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

4)粘土

粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類(lèi)似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

5)涂料

 涂料種類(lèi)繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

6)污染監(jiān)測(cè)

粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

7)化妝品

無(wú)論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)?;瘖y品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

8)乳劑

乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類(lèi)型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見(jiàn)的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過(guò)程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期。

9)食品

食品的原料(粉末及液體)通常來(lái)源于不同的加工廠,不同來(lái)源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

10)液體工作介質(zhì)/油

液體工作介質(zhì)(如:油)越來(lái)越昂貴,延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問(wèn)題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤(rùn)滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來(lái)確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過(guò)監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命。

11)墨水

隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機(jī)用的墨水變得越來(lái)越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過(guò)研磨方法制得的,可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過(guò)程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

12)膠束

膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過(guò)某一臨界值后,其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒,這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。

其他如:乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等


關(guān)鍵詞:滴定儀 稀釋器
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