NCRs(NCRd)氣體純化裝置
提純無需備氫源
專門為無氫氣或不使用氫氣的生產(chǎn)工藝而設(shè)計的氣體純化設(shè)備
高可靠性 高穩(wěn)定性
擁有自主的*技術(shù)，采用*的節(jié)能工藝流程，配合使用自制的除氧催化劑，設(shè)備運氣更穩(wěn)定，可靠，使用時間更長。裝置運行穩(wěn)定性好，可靠性高，常溫常壓下工作，性能好，正常使用、維護下13X分子篩使用時間可達10年以上。
程控閥門技術(shù)
*的程控閥門，結(jié)構(gòu)緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關(guān)次數(shù)高達100萬次*。
占地面積小 無氫設(shè)計
裝置工藝流程簡單、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、減少空間需求。本裝置適用于專門為無氫氣或不要使用氫氣而設(shè)計的氣體純化設(shè)備，且對碳無要求。
自動化控制 維護簡單
裝置自動化程度高，觸摸屏控制開停機方便快捷，啟動時間短，可遠程控制設(shè)備啟停。吸附器結(jié)構(gòu)設(shè)計*，氣流的分布相當均勻，接觸時間長，13X分子篩在很大程度上得到利用，可以在不停機下更換脫水干燥劑或進行大檢修。
可編程序控制器自動化控制
氮氣純度、流量在線監(jiān)測
冷干機、過濾器自動排污；
設(shè)備維修或外界事故（停電等）時，備用氮氣自動補充切換
人機界面控制系統(tǒng)
冷卻水故障報警自動開停機
原料氣
氧含量：0.01%～0.1%
壓力： 0.5MPa～1.0MPa
產(chǎn)品氣
純度：≥99.9995%
氧含量： ≤1ppm
CO2含量：≤1000ppm（CO2純化項目除外）
含塵粒徑：≤0.01μm
含塵量：≤1mg/m3
常壓露點：≤-60℃
注：1. 原料氣指標不在范圍內(nèi)的項目，請咨詢我司定制。
2. 對產(chǎn)品氣60℃＜常壓露點≤-80℃我司可特殊供貨。
本氣體純化裝置是專門為無氫氣或不能使用氫氣的用戶設(shè)計的氣體純化裝置，它采用燃燒法脫氧，讓氣體中的氧雜質(zhì)與3093脫氧劑在350℃下發(fā)生燃燒（氧化）反應(yīng)，生成二氧化碳，從而除去氧雜質(zhì)。
通常適用于含有雜質(zhì)氧氣≤0.1%的氮、二氧化碳等氣體進行脫氧處理，可以獲得高純氣體產(chǎn)品。
NCRd型氮氣純化裝置由燃燒除氧系統(tǒng)、吸附干燥系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)三大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、可編程序控制器、燃燒塔、干燥塔、水冷卻器、熱換器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。
