特點:
降解化學物:能去除揮發(fā)性物(VOC)、無機物、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味,脫臭效率可達 以上,脫臭效果超過1993年頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93),無需添加任何物質(zhì):只需要設置相應的排風管道和排風動力,使氣體通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學反應。
光催化氧化適合在常溫下將廢臭氣體 氧化成的物質(zhì),適合處理、氣量大、穩(wěn)定性強的氣體的廢氣處理。半導體光催化具有氧化性強的特點,對臭氧難以氧化的某些物都能 加以分解,所以對難以降解的物具有特別意義,光催化的 氧化劑是自由基(OH-)和超氧離子自由基(O2-、O-),其氧化性高于常見的臭氧、雙氧水等。通過光催化氧化可直接將空氣中的廢臭氣體 氧化成的物質(zhì),不留二次污染。光催化氧化對眾多的物都 ,即使對原子物也有很好的去除效果,只要經(jīng)過 時間的反應便可達到 凈化。
原理:
廢氣處理設備光氧催化設備的特點及工作原理 催化劑:根據(jù)不同的廢氣成分配置27種以上相對應的惰性催化劑,催化劑采用蜂窩狀金屬網(wǎng)孔作為載體,光源接觸,惰性催化劑在338納米光源以下發(fā)生催化反應,放大10-30倍光源效果,使其與廢氣進行充分反應,縮短廢氣與光源接觸時間,從而提高廢氣凈化效率。