工業(yè)反滲透設(shè)備主要用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取，根據(jù)客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn)，出水電導(dǎo)率可達(dá)0.055μS/cm~10μS/cm 。適用于食品飲料工業(yè)、電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業(yè)；精密機(jī)械、汽車工業(yè)等行業(yè)。
工業(yè)純水處理設(shè)備 化工化妝品電鍍用純水
EDI高純水設(shè)備特性
1、PLC全自動控制，無需人工值守，節(jié)省人力成本
2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，且不會因?yàn)樵偕C(jī)
3、設(shè)備出水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定，能耗低，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低
4、關(guān)機(jī)時(shí)膜保護(hù)系統(tǒng)可自動沖洗膜面污染物，延長膜使用年限
5、結(jié)構(gòu)緊湊，占地小，大大節(jié)省了基建投資
反滲透純水處理設(shè)備技術(shù)參數(shù)
JB/T 2932-1999《水處理設(shè)備制造技術(shù)條件》
GB/T19249-2003 《反滲透水處理設(shè)備》
GB5749-2006 《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》
GB8978—2002《城鎮(zhèn)污水處理廠污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》
反滲透純水處理設(shè)備操作控制方式
反滲透純水設(shè)備系統(tǒng)的控訴方式有手動與自動兩種控制，可達(dá)到下述要求：
自來水箱的自動補(bǔ)水：自來水箱的液位到達(dá)低位時(shí)，進(jìn)行自動補(bǔ)水。補(bǔ)水到高位時(shí)停止補(bǔ)水
自來水箱水位到達(dá)一定液位時(shí)，系統(tǒng)開始工作，當(dāng)純水箱滿水時(shí)系統(tǒng)停止
自來水箱處于低水位時(shí)，啟動缺水保護(hù)，系統(tǒng)*停止，手動與自動操作均不能進(jìn)行。
反滲透系統(tǒng)每次開機(jī)時(shí)進(jìn)行開機(jī)清洗，開機(jī)清洗的時(shí)間控制在30秒左右（時(shí)間是可調(diào)節(jié)的），
當(dāng)反滲透運(yùn)行一段時(shí)間后進(jìn)行定時(shí)清洗（時(shí)間是可調(diào)節(jié)的）
當(dāng)預(yù)處理壓力達(dá)不到2kg時(shí)，反滲透主機(jī)受低壓力保護(hù)
當(dāng)軟水器工作到72小時(shí)時(shí)，系統(tǒng)進(jìn)行自動的再生處理
當(dāng)超純水箱滿水時(shí)，EDI膜堆停止工作
EDI膜堆受EDI濃水流量開關(guān)控制，流量達(dá)不到要求時(shí)，EDI膜堆自動停機(jī)
工業(yè)純水處理設(shè)備 化工化妝品電鍍用純水
