一、2T/H反滲透純水設備概述:
工業(yè)純水設備主要是用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。工業(yè)純水設備包括反滲透設備、離子交換設備、EDI高純水設備,用在不同的行業(yè)其采用的過濾方法不同,工藝流程也不一樣。工業(yè)純水機可以用于:飲用水、瓶裝水、食品工業(yè)用水、半導體工業(yè)、精細化工、光學工業(yè)用水、電鍍用水、鋁氧化用水、化妝品護膚品生產(chǎn)用水、洗手液洗衣液生產(chǎn)用去離子水、洗洗潔精等洗滌劑工業(yè)用DI去離子水、醫(yī)藥用水、透析醫(yī)療用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等
二、2T/H 反滲透純水設備在工業(yè)生產(chǎn)中的應用:
純水在電子工業(yè)尤其是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品合格率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也越來越高。在電子元器件生產(chǎn)中,高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途不同,因此對水質(zhì)的要求也不同。
在電解電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等,就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力,并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水,每生產(chǎn)一個顯像管需用純水80kg。
液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的 80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關系很大。
水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬 (Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導致器件性能變壞,水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面,就會引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表2。
相關搜索:反滲透RO純水機的安裝方法 反滲透設備回收率 工業(yè)DI水處理