一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
本產(chǎn)品主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,該工藝在材料研究領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
二、主要技術(shù)特點(diǎn):
1、可對(duì)涂層表面進(jìn)行恒溫加熱,加熱范圍:室溫~200℃,控溫精度0.1℃。
2、可以用于勻膠涂覆有機(jī)物,進(jìn)行薄膜制備。
3、可以行勻膠,然后進(jìn)行烤膠。
4、可存儲(chǔ)多種不同基片的旋轉(zhuǎn)涂敷工藝參數(shù)。每個(gè)涂敷工藝流程可以設(shè)置多步不同的旋轉(zhuǎn)速度
5、勻膠機(jī)內(nèi)安裝有真空數(shù)字傳感器,涂敷過(guò)程中可實(shí)時(shí)檢測(cè)系統(tǒng)真空度,控制器必須在合適的真空度下電機(jī)才可以正常啟動(dòng)和運(yùn)行。這樣可以有效保障:可靠吸片并杜絕飛片事故的發(fā)生。
6、操作系統(tǒng)有中、英文相互切換供您選擇。
7、工作腔體為 聚四氟(塑料王)材質(zhì),它是由四氟乙烯經(jīng)聚合而成的高分子化合物,具有優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性和的耐腐蝕性,已廣泛應(yīng)用于各種需要抗酸堿和有機(jī)溶劑的場(chǎng)合。
三、主要技術(shù)參數(shù):
單相交流電源:220V.50Hz
電機(jī)功率:150W
基片尺寸:8英寸
可選擇配置: 基片直徑10—200mm可接受訂貨。
主機(jī)轉(zhuǎn)數(shù):0~10000 轉(zhuǎn)/分。(空轉(zhuǎn))
設(shè)定時(shí)間:1---9999秒。
加熱溫度:室溫~200℃
結(jié)構(gòu)尺寸: 300mm寬 x 300mm深 x 200 mm高 ,
可選配件
1、CY-2Z真空泵
2、真空吸盤尺寸:直徑10,20,25,50,75mm聚四氟乙烯吸盤。
四、免責(zé)聲明
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