LIBS是Laser-Induced Breakdown Spectroscopy (激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀)的簡稱,該技術(shù)通過超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離子體,利用光譜儀對等離子體發(fā)射光譜進(jìn)行分析,以此來識別樣品中的元素組成成分,進(jìn)而可以進(jìn)行材料的識別、分類、定性以及定量分析。
自從LIBS技術(shù)問世以來,該技術(shù)就被為是一種前景廣闊的新技術(shù),將為分析領(lǐng)域帶來眾多的創(chuàng)新應(yīng)用。LIBS作為一種新的材料識別及定量分析技術(shù),既可以用于實(shí)驗(yàn)室,也可以應(yīng)用于工業(yè)現(xiàn)場的在線檢測;
LIBS彌補(bǔ)了傳統(tǒng)元素分析方法的不足,尤其在微小區(qū)域材料分析、鍍層/薄膜分析、缺陷檢測、珠寶鑒定、法醫(yī)證據(jù)鑒定、粉末材料分析、合金分析等應(yīng)用領(lǐng)域優(yōu)勢明顯,同時(shí),LIBS還可以廣泛適用于地質(zhì)、煤炭、冶金、制藥、環(huán)境、科研等不同領(lǐng)域的應(yīng)用。
除了傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室的應(yīng)用,LIBS還是為數(shù)不多的可以做成便攜裝置的元素分析技術(shù),更是目前為止被認(rèn)為可以做在線分析的元素分析技術(shù)。這將使分析技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域極大地拓展到戶外、現(xiàn)場、甚至生產(chǎn)工藝過程中;
Spectral Industries 推出的全新時(shí)間門控LIBS測量系統(tǒng),是一套高效,功能強(qiáng)大,通用型強(qiáng)的LIBS測量系統(tǒng),無論在實(shí)驗(yàn)室或戶外操作,均可*應(yīng)對各種測試環(huán)境,甚至其IRIS 光譜儀可用于空間環(huán)境!
LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀具有如下特點(diǎn)及優(yōu)勢:
l 超高數(shù)值孔徑(F/2):基于設(shè)計(jì)的IRIS 中階梯光柵光譜儀的其LIBS系統(tǒng)可以獲得優(yōu)于其他對手的優(yōu)質(zhì)信噪比;
l 使用中階梯光譜儀: 兼顧高分辨率(0.1-0.4nm)及寬的光譜覆蓋范圍180-800nm,880-1100nm;
l 配備高效光學(xué)激光聚焦及信號收集系統(tǒng):可以獲得更低的探測極限以及更短的積分時(shí)間;
l 使用優(yōu)選的全自動控制的激光源以及3軸電動位移臺: 軟件全自動控制,協(xié)調(diào)工作,同時(shí)保持OEM定制靈活性;
l <10ns 精確時(shí)延抖動: 有效避免韌致輻射背景噪聲干擾;
l 靈活小巧一體化的設(shè)計(jì):不但適合實(shí)驗(yàn)室使用,同樣適合工業(yè)設(shè)備的集成;強(qiáng)大的設(shè)計(jì)提供非常低的溫度影響,使其能夠承受惡劣的環(huán)境,同時(shí)可任意方向安裝,以任何想要的方向來對準(zhǔn)樣品,不受場地及環(huán)境限制;
LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀
Spectral Industries 的全套LIBS 系統(tǒng)包括:
l IRIS 中階梯光柵光譜儀
l 納秒脈沖主動調(diào)Q激光器
l 用于門控LIBS 測量的脈沖延遲發(fā)射器
l 激光聚焦及信號收集光學(xué)系統(tǒng)
l 自動控制-3軸電動位移臺
l 軟件—全硬件控制,Matlab數(shù)據(jù)處理作圖;
?
LIBS 系統(tǒng)(未包括譜儀及樣品臺)
IRIS 中階梯光譜儀
SPECTRAL LIBS 系統(tǒng)指標(biāo)參數(shù) | |
光譜儀 | IRIS UV(200-800nm)or IRIS-DUV(氮?dú)獯祾?/span>180-800nm,880-1100nm) 光譜儀 |
光學(xué)系統(tǒng) | 高效激光聚焦及信號收集光學(xué)系統(tǒng) |
激光器 | 可選擇不同單脈沖能量及頻率的 主動調(diào)Q 納秒脈沖激光器 |
脈沖延遲發(fā)生器 | <10 ns抖動 ,100ns 時(shí)間延遲步距調(diào)整 |
位移臺 | 3軸電動位移臺,50*50mm移動范圍;(其他尺寸可選) |
氣體吹掃 | 吹掃接口閥門適用于深紫外測試:<200nm波段; |
工作距離 | > 50-500 mm (更大距離可選) |
激光聚焦光斑尺寸 | <=100 µm |
IRIS 中階梯光譜儀參數(shù)指標(biāo) | |
光譜范圍 | 180 - 800 nm and 880-1100nm (包括吹掃選項(xiàng)) |
光譜分辨率 | 0.1 - 0.45 nm (@ 180-800 nm, for 25 µm wide slit) |
F-數(shù)值孔徑 | f/2 |
狹縫尺寸 | 25 x 100 µm2 (其他尺寸可選: 10 x 100 µm2 and 50 x 100 µm2) |
波長穩(wěn)定性 | < 5 pm/K |
尺寸 | 220 x 195 x 80 mm3 (包括相機(jī)) |
重量 | 3 kg (包括相機(jī)) |
相機(jī) | CMOS 探測器 (深紫外增強(qiáng)型),積分時(shí)間28 µs – 30 s |
LIBS 系統(tǒng)元素探測極限(部分)
典型現(xiàn)場應(yīng)用案例
實(shí)驗(yàn)室礦石表面Mapping分析
--鉆孔巖心棒元素分布2D圖譜
--鋰礦巖石表面元素分布圖