主要特點(diǎn):
- 主機(jī)可同時(shí)安裝雙爐體
- 光源脈沖寬度軟件控制,連續(xù)可調(diào)
- PulseMapping技術(shù)
- 可提供適用于特殊材料、特殊應(yīng)用的樣品支架
技術(shù)參數(shù):
- 溫度范圍:-120 … 2800°C(不同爐體)
- 激光源:Nd:Glass激光,能量可調(diào)
- 導(dǎo)熱系數(shù):0.1 ... 2000W/mK
- 真空度:10-5 mbar
- 樣品尺寸:方形8X8mm,10X10mm;圓形Ø6mm,Ø10mm,Ø12.7mm,Ø20mm;厚度0.1 … 6mm
- 測試氣氛:真空、惰性或反應(yīng)氣體
- 支架類型:石墨、氧化鋁、碳化硅
- 樣品形態(tài):固體、液體、粉末、薄膜