日立離子研磨裝置IM4000 II
日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!
日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的混合模式帶有兩種研磨配置:
斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的高通量能提高加工效率:
與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計(jì),減少了橫截面研磨時(shí)間。
(參考加工速率:硅元素為300微米/小時(shí) — 加工時(shí)間減少了66%。日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )的可拆卸樣品臺(tái)裝置:
為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣,可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
特點(diǎn) |
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