工程案例
江蘇某新能源材料有限公司
臭氧來源:等離子清洗機
臭氧風量:24000m3/h
臭氧濃度:7-10ppm
設(shè)備工藝:臭氧凈化設(shè)備
處理效率:≥95%
臭氧凈化設(shè)備:
【使用場景】 臭氧凈化設(shè)備主要針對是中低濃度臭氧污染的凈化(O3≤500ppm),能夠在常溫條件下,快速凈化分解臭氧為無毒的氧氣,無需耗能。
● 靜電復(fù)印機、激光打印機、UV 固化機、各類空氣凈化器等。
● 臭氧氧化廢水過程的低濃度臭氧尾氣治理。
● 光解、等離子、臭氧發(fā)生器、高壓靜電等設(shè)備的臭氧二次污染治理。
● 科研、殺菌消毒、公共場所異味消除后臭氧污染凈化等。
● 工業(yè)生產(chǎn)過程使用臭氧或者產(chǎn)生臭氧的設(shè)備及場合的臭氧凈化。