本裝置由我公司和材料物理重點(diǎn)實驗室聯(lián)合研制,適用于在塑膠、玻璃、陶瓷等材質(zhì)的工件上鍍制金屬膜、裝飾膜、硬質(zhì)膜、金剛膜、或光學(xué)膜等科研與生產(chǎn)工作。
主要技術(shù)參數(shù):
◆真空室:鍍膜室尺寸:Φ450×540mm;結(jié)構(gòu):箱式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),手動推拉式;觀察窗:鍍膜室門上配有Φ100mm觀察窗;
◆蒸發(fā)組件:蒸發(fā)電源(3KW/10V)2組;水冷蒸發(fā)電極2對;
◆控制方式:手動按鍵式;
◆旋轉(zhuǎn)夾具:球面拱形夾具,0~30r/min無級可調(diào)(可根據(jù)要求定制);
◆工件烘烤:室溫~300℃(PID控制);
◆真空測量:數(shù)顯復(fù)合真空計;
◆供電電源:三相AC380V,50Hz;
◆選配件:石英晶振膜厚測控儀、高壓離子轟擊;
◆用戶需自備或另購冷卻水系統(tǒng)。