BSD-CS 全自動化學(xué)吸附儀
Automatic Chemisorption Analyzer
一、標(biāo)準(zhǔn)功能
1.程序升溫脫附(TPD)
2.程序升溫還原(TPR)
3.程序升溫氧化(TPO)
4.程序升溫表面反應(yīng)(TPSR)
5.程序升溫硫化(TPS)
6.脈沖滴定
7.BET 比表面積
二、技術(shù)參數(shù)
三、儀器氣路結(jié)構(gòu)
四、報告內(nèi)容
1.吸附劑表面活性中心類型
根據(jù)脫附峰的數(shù)量來判定活性中心的種類,一個峰即對應(yīng)一種活性中心。
2.不同類型活性中心的數(shù)目
根據(jù)峰面積來計算每一種活性中心的數(shù)量。
3.活性中心與吸附質(zhì)氣體結(jié)合強(qiáng)度
根據(jù)脫附峰Tm 的大小判定活性中心與吸附質(zhì)氣體結(jié)合鍵能的強(qiáng)弱,Tm 越大鍵能越大。
4.吸附及脫附活化能
根據(jù) Wigner-Polanyi 模型求得脫附活化能;同時根據(jù)其擴(kuò)展公式可求得吸附及脫附動力學(xué)和熱力學(xué)的全部參數(shù)。
5.金屬分散度
金屬分散度是指催化劑表面金屬原子與催化劑總金屬原子數(shù)的比值,計算公式如下:
上式中 DM 為金屬分散度,Va 為標(biāo)況下吸附的吸附質(zhì)氣體的體積單位為 L, N0 為阿伏
伽德羅常數(shù),W(g)為催化劑總質(zhì)量,P 為催化劑中所有金屬的質(zhì)量分?jǐn)?shù),M 為金屬的相對分子量,Sloop 為定量環(huán)產(chǎn)生的峰面積,Vloop 為定量環(huán)標(biāo)況下的體積,Si 為每次脈沖滴定產(chǎn)生的峰面積。
6.活性金屬表面積
活性金屬原子面積總和與催化劑中所有金屬原子質(zhì)量比
上式中 SM (m2/g)為活性金屬表面積,n 為吸附劑與吸附質(zhì)氣體分子的系數(shù),Va(L)為吸附質(zhì)
氣體體積, N0 為阿伏伽德羅常數(shù), S0 (nm2)為金屬橫截面積,W(g)為催化劑總質(zhì)量,P 為催化劑中所有金屬的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。
7.平均粒徑大小
d(Å)催化劑中活性金屬平均粒徑,Sm(m2/g)催化劑活性比表面積,ρ(g/cm3)催化劑金屬密度。