Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀,真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵,無油真空系統(tǒng),真空度可達(dá)2×10 -6 mbar。鍍膜細(xì)膩均勻。內(nèi)置石英膜厚檢測器,可控制鍍膜厚度。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當(dāng)下流行的觸摸屏控制,簡單方便。儀器可選離子濺射鍍金屬膜,滿足高分辨場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)需求。可選碳絲蒸發(fā)鍍碳膜,用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。還可以選擇電子束蒸發(fā)方式鍍膜,獲得極其細(xì)膩的金屬膜與碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。
主要技術(shù)參數(shù)
• 可任選離子濺射模式,碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,碳棒(熱阻)蒸發(fā)模式,電子束蒸發(fā)模式,雙濺射模式,濺射-碳絲模式,濺射-碳棒模式,濺射-電子束模式,雙電子束模式,可兼容EM VCT500冷凍傳輸系統(tǒng),可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)
• 設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可控制碳膜厚度
• 內(nèi)置石英膜厚檢測器,控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm
• 全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程
• 觸摸屏控制,簡單方便
• 采用隔膜泵+渦輪分子泵,無油真空系統(tǒng),真空度≤2×10 -6 mbar
• 濺射電流:0-150mA可調(diào)
• 方形樣品倉設(shè)計,樣品倉尺寸:200mm(寬)×150mm(深)×195mm(高)
• 樣品臺內(nèi)置旋轉(zhuǎn),工作距離調(diào)節(jié)范圍:30mm-100mm