設(shè)定后無(wú)需過(guò)多留心
·樣品在拋光盤(pán)中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光
·12in [305 mm]直徑拋光盤(pán)可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品
·樣品在拋光盤(pán)中可自動(dòng)開(kāi)始振動(dòng)拋光
·12in [305 mm]直徑拋光盤(pán)可同時(shí)制備多達(dá)18個(gè)樣品
無(wú)需使用危險(xiǎn)電解液
·替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液
·結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液,MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光
·替換電解拋光儀和危險(xiǎn)電解液
·結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液,MicroCloth 拋光布對(duì)樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光
快速去除樣品表面變形層
·水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力
·所得樣品表面適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)
·對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到理想的制備效果
·水平運(yùn)動(dòng)溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力
·所得樣品表面適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)
·對(duì)混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到理想的制備效果