JY-S100離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上小型鍍膜系統(tǒng),特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
主要特性
l 通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程,避免樣品表面受損。
l 操作容易快捷,控制的參數(shù)包括放氣以及氬氣換氣控制。
l 數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氣壓影響,可得到一致的鍍膜速率和高質(zhì)量的鍍膜效果。
l 可使用多種金屬靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au 靶為標(biāo)配),靶材更換快速方便。
技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng) | |
樣品倉(cāng)尺寸 | 120 x120mm |
靶材 | Au 靶為標(biāo)配,可選 Pt,直徑 57mm x 0.1mm 厚 |
標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái) | 可以裝載 12 個(gè) SEM 樣品座,高度可調(diào)范圍為 60mm |
※旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)(選配) | 旋轉(zhuǎn)速度:0~60rpm 連續(xù)可調(diào),傾斜角度:-90°~ 90°連續(xù)可調(diào); 不銹鋼腔體:直徑 120mm X 高 75mm; 觀察窗:直徑 120mm X 高 45mm; 標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái)直徑 40mm,可放 4 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái),其它規(guī)格可訂做;具有雙重鎖緊裝置,可確保樣品在旋轉(zhuǎn)傾斜時(shí)不會(huì)松動(dòng)脫落。 |
濺射電流 | 微處理器控制,安全互鎖,可調(diào),電流 5~30mA,程序化數(shù)字控制 |
計(jì)量表 | 真空: Atm - 1*10-3mbar,電流:0~99mA |
控制方法 | 帶有“開(kāi)始”“暫停”按鈕的微處理控制器(1-999s),自動(dòng)抽氣、濺射、關(guān)機(jī)后自動(dòng)放氣。 |
真空系統(tǒng) | |
抽氣速率 | 133L/MIN |
極限真空 | 10-4 mbar 級(jí) |
噪音 | 56dB |