我國的現(xiàn)在制造的產(chǎn)品在追求經(jīng)濟利益的同時，也同樣考慮到了它的節(jié)能低碳。單晶硅超純水設(shè)備的出水就是幾乎無雜質(zhì)的純水，應(yīng)用于單晶硅的生產(chǎn)和清洗過程中。單晶硅是太陽能產(chǎn)品重要的組成，也是電子信息材料中基礎(chǔ)性材料。

　　單晶硅超純水設(shè)備簡介

　　單晶硅超純水設(shè)備是運用*的膜分離技術(shù)，以及電子離子的EDI技術(shù)。反滲透技術(shù)中的RO膜是能攔截極細小的雜質(zhì)，EDI是由膜塊組成靈活方便效率高。設(shè)備整體自動化程度高可以無需人工操作，結(jié)構(gòu)合理占地面積少。

　　單晶硅超純水設(shè)備工作程序

　　單晶硅超純水設(shè)備的工作程序主要包括四部分，分別是前處理系統(tǒng)、預(yù)處理系統(tǒng)、精致處理系統(tǒng)、后處理系統(tǒng)。原水通過前處理系統(tǒng)的水箱和水泵，到達3級過濾和軟水器的預(yù)處理系統(tǒng)。到達精致處理系統(tǒng)雙級反滲透和EDI結(jié)合，最后到達微孔過濾器的后處理系統(tǒng)。

　　單晶硅超純水設(shè)備特點

　　單晶硅超純水設(shè)備整體采用技術(shù)*的零部件，質(zhì)量安全可靠易于操作維護方便。設(shè)備自動化程度高可以自動關(guān)機，具有的自我保護功能。采用的是*的膜保護系統(tǒng)，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈來延長膜的壽命。

　　現(xiàn)在企業(yè)要使用的是能降低成本，而且又能利于生產(chǎn)的設(shè)備。單晶硅超純水設(shè)備的出水能達到電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準，美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準。作為專業(yè)的超純水設(shè)備廠家，我們的超純水設(shè)備在技術(shù)運用上屬于行業(yè)的，我們不只是單晶硅超純水設(shè)備，多晶硅超純水設(shè)備，鍍金用超純水設(shè)備還有制藥用超純水設(shè)備也都非常受用戶歡迎。