NTEGRA PRIMA
一款具有無限擴展能力的原子力顯微鏡
NTEGRA Prima是一款具備原子級分辨的科研型原子力顯微鏡。NTEGRA代表N個integration，即NTEGRA作為開放的原子力顯微鏡平臺，在具備了形貌、電學、磁學、力學、刻蝕、操縱等SPM技術的同時，還能根據用戶的潛在需求配備相應的部件或提供的自由搭建空間。例如：近場光學、拉曼/熒光光譜聯(lián)用、外加磁場、聲學原子力等功能。得益于開放式平臺的設計，這些功能只需要升級相應部件，無需更換基座、控制箱、軟件等。大大提升了儀器的潛力，豐富了用戶的科研手段！
基本信息
NTEGRA PRIMA是掃描探針顯微鏡領域中代表性的一種多功能儀器。該儀器能夠執(zhí)行40多種測量方法，從而能夠以高精度和高分辨率在空氣、液體和受控環(huán)境中分析表面的物理和化學特性。 新一代電子產品提供高頻(高達5兆赫)模式的操作.這一特點使得儀器可以實現(xiàn)高頻AFM模式和使用高頻懸臂。*NTEGRA Prima可以實現(xiàn)多種掃描模式：樣品掃描式，探針掃描式和雙掃描模式。因此，該系統(tǒng)不僅可以實現(xiàn)超高分辨率(原子分子水平)的小樣品的研究可可以實現(xiàn)大樣品的研究，掃描范圍可達100×100x10m。的DualScan TM模式可以在更大范圍的區(qū)域對樣品進行分析(X、Y和Z分別為200×200 m和22 m)，例如，對于活細胞和MEMS組件來說，大的掃描范圍尤其有用。內置三軸閉環(huán)控制傳感器跟蹤掃描儀的真實位移，補償壓電陶瓷不可避免的非線性、蠕變和遲滯等缺陷。NT-MDT的傳感器具有的噪聲水平，在極小的掃描區(qū)域(10×10 nm)上也可實現(xiàn)閉環(huán)控制。這對于實現(xiàn)納米操作和納米刻蝕尤其有價值。NTEGRA Prima有一個內置的光學系統(tǒng)，分辨率為1um，允許實時成像掃描過程。由于這種開放式結構，NTEGRA Prima的功能可以從本質上加以擴展：具有外部磁場的專用磁測量、高溫實驗、近場光學顯微鏡、拉曼光譜等。*例如原子力聲學顯微鏡(AFAM)的方法允許通過對每個掃描點的楊氏模量進行定量測量來分析樣品的軟、硬程度。與相位成像模式相比，AFAM可以為軟目標獲得更好的對比度，使得在硬樣本上獲得對比度成為可能，而當采用其他方法時，這是一項非常困難的任務。
- 生物學與生物技術
蛋白質，DNA，病毒，細菌，組織 - 材料科學
表面形貌，局部壓電性能，局部粘著性能，局部摩擦學性能 - 磁性材料
磁疇結構可視化，外加磁場磁化反轉過程的觀察，不同溫度下磁化反轉過程的觀察 - 半導體，電測量
晶片和其他結構形態(tài)、局部表面電位和電容測量、電疇結構成像、異質結界的確定和不同摻雜水平的半導體區(qū)域的確定、失效分析(導體線失效和介質層泄漏的局部化) - 聚合物與有機薄膜
球晶和樹枝晶，聚合物單晶，聚合物納米粒子，LB膜，有機薄膜
- 數(shù)據存儲設備和媒體
CD、DVD光盤、帶熱機械、電子和其他類型記錄的太比特存儲器的存儲器 - 納米材料
納米材料，納米復合材料，納米多孔材料 - 納米結構
富勒烯，納米管，納米絲，納米膠囊 - 納米電子學
量子點，納米線，量子結構 - 納米化
AFM光刻：力(交流和直流)，電流(局部陽極氧化)，STM光刻 - 納米粒子
接觸力
指標
測量模式
在空氣和液體中：
AFM(接觸+半接觸+非接觸)/側向力顯微鏡/相位成像/力調制/粘附力成像/納米刻蝕：AFM(力)
在空中：
STM/磁力顯微鏡/靜電力顯微鏡/掃描電容顯微鏡/開爾文探針顯微鏡/擴展電阻成像/光刻：AFM(電流)、STM/AFAM(可選)
| 掃描類型 | 樣品掃描 | 探針掃描* | |
|---|---|---|---|
| 樣本量 | 直徑高達40毫米， 高至15毫米 | 直徑高達100毫米， 高度可達15毫米 | |
| 樣本重量 | 達100克 | 最多300克 | |
| XY樣品正畸 | 5×5毫米 | ||
| 定位分辨率 | 分辨率-5 um 靈敏度-2微米 | ||
| 掃描范圍 | 100x100x10μm 3x3x2，6 um 小于1x1x1μm | 100x100x10μm 50x50x5 um | |
| 最多200x200x20微米**(DualScan)TM模式) | |||
| 非線性，XY (帶有閉環(huán)傳感器) | ≤0.1% | ≤0.15% | |
| 噪音水平，Z (帶寬為1000 Hz的均方根) | 帶傳感器 | 0.04nm(通常)， ≤0.06nm | 0.06nm(通常)， ≤0.07nm |
| 沒有傳感器 | 0.03nm | 0.05 nm | |
| 噪音水平，XY*** (帶寬為200 Hz的均方根) | 帶傳感器 | 0.2 nm(通常)， ≤0.3nm(XY 100 Um) | 0.1nm(通常)， ≤0.2nm(XY 50 Um) |
| 沒有傳感器 | 0.02nm(XY 100 Um)， 0.001 nm(XY3um) | 0.01nm(XY 50 Um)， | |
| 線性維數(shù)估計誤差 (帶有傳感器) | ± 0.5% | ± 1.2% | |
| 光學觀察系統(tǒng) | 光學分辨率 | 1微米 (0.4μm任選，NA 0.7)**** | 3微米 |
| 視場 | 4.5-0.4毫米 | 2.0-0.4毫米 | |
| 連續(xù)變焦 | 支持 | 支持 | |
| 隔振 | 主動 | 0.7-1000赫茲 | |
| 被動 | 1 kHz以上 | ||
*掃描頭可配置為一個獨立的裝置，供無限大小的樣本使用。
*可以任意擴展到200x200x20мm。
*內置電容傳感器具有極低的噪聲，任何小于50×50 nm的區(qū)域都可以用閉環(huán)控制掃描。
*高分辨率觀察系統(tǒng)(HRV頭)是可選的，并提供額外的功能，使它有可能產生和檢測定位孔徑較少近場效應。
