安東帕顯微可視流變儀MCR的光學(xué)測量控溫平臺，可以實現(xiàn)一平臺多功能的目的，在一個光學(xué)控溫平臺上，可以進行顯微可視、UV光固化、偏光成像、熒光顯微、小角激光散射（SALS）、紅外光譜聯(lián)用、拉曼光譜聯(lián)用等流變-光學(xué)同步測量功能，可以在進行流變測試的同時觀察樣品的微觀結(jié)構(gòu)、進行光譜分析。
光學(xué)控溫平臺有兩種，一個是Peltier控溫系統(tǒng)，溫度范圍為-20℃ - 200℃；另一個是電加熱控溫系統(tǒng)，溫度范圍為RT - 300℃。兩種控溫系統(tǒng)均由下加熱板和上加熱罩組成，可實現(xiàn)準(zhǔn)確均勻的溫度控制。
光學(xué)顯微可視模塊與流變學(xué)方法相結(jié)合，可以觀察剪切力和變形力對樣品微觀結(jié)構(gòu)的影響，結(jié)構(gòu)參數(shù)和流變參數(shù)可以同時進行研究。例如，您可以通過顯微鏡觀察和記錄剪切場中不同位置的受剪切乳液結(jié)構(gòu)。
在此控溫平臺基礎(chǔ)上可使用的光學(xué)模塊包含以下幾個方面：
安東帕顯微可視流變儀MCR顯微可視模塊
長焦物鏡，標(biāo)準(zhǔn)放大倍數(shù) 20X（可按需提供 5X、10X 和 50X 的物鏡）
| 工作距離 (20X) | 20 mm |
| 數(shù)字光圈 (20X) | 0.42 |
| 分辨力 | 0.7 μm |
| 景深 | 1.6 μm |
| 光源模式可選 | 白光、偏光、熒光 |
UV光固化測量模塊
用于研究光固化或老化反應(yīng)的UV測量模塊可以對樣品施加UV照射，可選擇高壓汞燈或LED光源。
SALS小角激光散射模塊
用于研究樣品內(nèi)微米尺寸范圍的結(jié)構(gòu)信息，通過激光散射分析分散相結(jié)構(gòu)的尺寸信息、取向信息，主要用于乳液、液晶、懸浮液等分散性體系樣品。
偏光成像模塊
主要用于聚合物熔體的剪切誘導(dǎo)結(jié)晶研究，觀察樣品在剪切脈沖作用下的結(jié)晶偏光圖像。
