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3D射線顯微鏡 蔡司Xradia 515 Versa

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱昆山海域科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/4/1 9:20:02
  • 訪問次數(shù)122
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昆山海域科技有限公司成立于2008年,以藍光掃描,CT掃描,尺寸類檢測、逆向工程業(yè)務為主的實驗室。主要設備有ZEISS ATOS 藍光掃描儀,手持式激光掃描儀,CT掃描儀,X-Ray射線掃描儀,??怂箍等鴺恕⒉趟救鴺?、三豐輪廓儀、影像儀等。 我司總部位于昆山清華科技園區(qū),在武漢、重慶、長春和蕪湖設立了分部。 專業(yè)從事ZEISS,ATOS全系列設備銷售和提供技術服務(包括全尺寸檢測、CT檢測、逆向工程、3D打印等),主要服務于汽車、電子、核電、航天、醫(yī)療等領域的廠家。公司被評為:《江蘇省民營科技企業(yè)》、《昆山市科技研發(fā)機構》、《創(chuàng)新服務公司》、《江蘇省一站式式檢測公共服務平臺 清華科技園(昆山)專業(yè)服務站》、《昆山蕪湖海外聯(lián)誼會員單位》,個人被園區(qū)評為“科學技術協(xié)會委員”,并多次得到客戶的認可,被選定為供應商。
三維掃描儀
蔡司X射線顯微鏡 Xradia 515 Versa 突破3D成像和原位/4D研究的微米級分辨率的成像壁壘。其高分辨率、高襯度以及靈活的工作距離下成像能力的組合,拓展了實驗室無損成像能力。蔡司 Xradia 515 Versa 得益于兩級放大的架構,可實現(xiàn)大工作距離下亞微米級分辨率成像(RaaD)。減少對單級幾何放大的依賴性,在大工作距離下依然保持了亞微米級分辨率。
3D射線顯微鏡 蔡司Xradia 515 Versa 產品信息

蔡司 Xradia 515 Versa

具有突破性的靈活3D亞微米成像系統(tǒng)

蔡司X射線顯微鏡 Xradia 515 Versa 突破3D成像和原位/4D研究的微米級分辨率的成像壁壘。

其高分辨率、高襯度以及靈活的工作距離下成像能力的組合,拓展了實驗室無損成像能力。

蔡司 Xradia 515 Versa 得益于兩級放大的架構,可實現(xiàn)大工作距離下亞微米級分辨率成像(RaaD)。

減少對單級幾何放大的依賴性,在大工作距離下依然保持了亞微米級分辨率。


優(yōu)勢

即使在距射線源較大的工作距離(從毫米到厘米)下,也能實現(xiàn)多功能性。

的吸收襯度和創(chuàng)新的相位襯度,可實現(xiàn)對軟材料或低原子序數(shù)材料3D成像

突破基于投影的微米CT的技術限制,在靈活的工作距離上實現(xiàn)優(yōu)異的高分辨率

多種樣品尺寸下解析亞微米級特征

4D / 原位解決方案拓展了實驗室無損成像能力

隨時間推移,在一定環(huán)境條件下研究材料變化

在保證圖像質量條件下的高通量


蔡司 Xradia 515 Versa應用案例

材料研究--典型任務與應用

觀察軟復合材料中的裂縫或測量鋼材中的孔隙率

在不同條件下的原位成像研究,例如拉伸、壓縮、通氣體、氧化、潤濕和溫度變化等

對真空條件和帶電粒子束不適合觀察的材料進行成像

觀察二維表面成像手段(如光學顯微鏡,掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡等)難以觀察到的深埋內部的微觀結構

大工作距離的高分辨率,使您在使用各種原位裝置研究各種大小和形狀的樣品時實現(xiàn)原位成像

利用X射線無損的本質進行4D成像,觀察各種不同條件對材料的影響


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聚合物電解質燃料電池:樣品是非常軟的多孔聚合物與聚氨酯骨干。實現(xiàn)了低原子序數(shù)材料的原位高襯度成像,觀察樣品結構隨著溫度和壓力的變化。利用3D數(shù)據(jù)做后續(xù)流體流動模擬,可證明樣品的滲透性。


生命科學--典型任務與應用

實現(xiàn)虛擬的組織學切片觀察,對細胞和亞細胞特征進行可視化

通過觀察高分辨率、高襯度的細胞和亞細胞結構,拓展您在發(fā)育生物學方面的視野

對完整的大樣本進行成像,例如大腦組織或大骨頭

對未染色和染色的組織實現(xiàn)高分辨率和高襯度成像

探究硬組織和軟組織以及生物的微觀結構

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原材料--典型任務與應用

表征巖心尺度上的非均質性,并對孔隙結構進行量化

流體流動測試,紋理分析,對不同特征尺寸進行分類

碳固存研究

改進礦物加工工藝流程:分析尾礦以盡量提高采收率,進行熱力學浸出研究,對鐵礦石等采礦產品進行 QA/QC 分析

精準的3D亞微米級成像,以幫助進行數(shù)字巖心模擬、原位多相流體流動研究和3D 礦物學分析

以高效率對大尺寸(4 英寸巖心直徑)樣品進行多尺度成像、表征和建模

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電子器件--典型任務與應用

對完整封裝進行無損亞微米成像來進行缺陷定位和表征,從而優(yōu)化工藝開發(fā)并進行失效分析

用三維方式測量內部特征或研究封裝的可靠性

受益于高分辨率和無損的3D亞微米成像,可部分替代或者補充物理切片觀察的方法

通過完整設備的高通量的宏觀掃描,可在單一工具的工作流程中實現(xiàn)高效工作

無損的“定位-和-放大”系統(tǒng),可實現(xiàn)快速從模組到封裝、到互連的缺陷進行重新定位,并快速獲得亞微米級成像表征結果,以補充或替代物理切片觀察方法


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