XTU-4C X熒光光譜儀
型號(hào):XTU-4C
測(cè)量面積:最小0.002mm2
鍍層分析:23層鍍層24種元素
儀器特點(diǎn):可手動(dòng)變焦
儀器優(yōu)勢(shì):同元素不同層分析
儀器簡(jiǎn)介:
XTU-4C是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度的鍍層測(cè)厚儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),不但可以測(cè)量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測(cè)量,是一款測(cè)量涂鍍層成分及厚度性價(jià)比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型。
該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測(cè)。
被廣泛用于各類(lèi)產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
技術(shù)參數(shù):
1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)
2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)
3. 厚度檢出限:0.005μm
4. 成分檢出限:1ppm
5. 最小測(cè)量直徑0.2mm(最小測(cè)量面積0.03mm2)
6. 對(duì)焦距離:0-30mm
7. 樣品腔尺寸:500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸:550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量:45KG
10. XY軸工作臺(tái)移動(dòng)范圍:50mm*50mm
11. XY軸工作臺(tái)承重:5KG
應(yīng)用領(lǐng)域:
多元迭代EFP核心算法
專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過(guò)EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
配置清單: