腔體材質(zhì): 不銹鋼表面處理
供電電源: AC220V
工作電流: 整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
射頻電源功率: 0-500W可調(diào)
射頻頻率: 40KHZ(偏移量小于0.2KHz)/ 13.56MHz
頻率偏移量: 小于0.2KHz
特性阻抗: 50歐姆,自動(dòng)匹配
真空度: 1pa-30Pa
氣體路數(shù): 雙路氣體輸入
氣體流量: 10—300ml/min(可調(diào))
過(guò)程控制: PLC人機(jī)界面自動(dòng)與手動(dòng)方式
清洗時(shí)間: 1-99999秒鐘可調(diào)
功率大小 10%-99%可調(diào)
內(nèi)腔尺寸 220 ×280×180mm 10L
外形尺寸: 650 ×550×440mm
真空泵: 2XZ-4(抽速4L/S)
真空室溫度: 小于30°C
冷卻方式: 強(qiáng)制風(fēng)冷
根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過(guò)選用不用種類的氣體,調(diào)整裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、點(diǎn)擊、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工作傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56MHz的無(wú)線電波,設(shè)備的運(yùn)行過(guò)程如下:
(1) 被清洗的工件送入真空室并加以固定,啟動(dòng)運(yùn)行裝置,開(kāi)始排氣,使真空室的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。
(2) 向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在10pa以內(nèi)。根據(jù)清洗材質(zhì)的不用,可分別選用氧氣、氫氣、或氮?dú)獾葰怏w。
(3) 在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體籠罩在被處理工件,開(kāi)始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
(4) 清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及汽化的污垢排出,同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入氣體,并使氣壓升至一個(gè)大氣壓.
如今,等離子清洗技術(shù)已經(jīng)成為微電子,LED,手機(jī),汽車,醫(yī)療等許多行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)問(wèn)題的可行解決方案。當(dāng)然,這與等離子清洗技術(shù)本身的優(yōu)勢(shì)密不可分。
(1)等離子清洗整個(gè)過(guò)程是環(huán)保干洗,清洗介質(zhì)為氣體;清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。大大提高整個(gè)工藝流水線的處理效率。(2)避免使用有害溶劑和昂貴的清洗劑,這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性。(3)等離子體的方向性不強(qiáng),這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀。而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好。(4)在完成清洗去污的同時(shí),還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。
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