HITACHI SU-8010高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡包括SU-8010主機(jī)和E-1045噴鉑噴碳裝置,并配備有EDAX X射線(xiàn)能譜儀。加速電壓為15kV時(shí),分辨率為1.0nm,加速電壓為1kV時(shí),分辨率為1.3nm。
日立2005年在中國(guó)推出了S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,由于出色的應(yīng)用性能、良好的穩(wěn)定性和簡(jiǎn)易的維護(hù),收到了各界用戶(hù)的*。
日立2011年新推出了它的后續(xù)機(jī)型----SU8010,它繼承了S-4800的優(yōu)點(diǎn),性能有進(jìn)一步提高,1kv使用減速功能后,分辨率提升到1.3nm,相對(duì)于S-4800可以在更低的加速電壓下呈高分辨像,明顯提升了以往很難觀測(cè)的低原子序數(shù)樣品的觀測(cè)效果。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 低加速電壓成像能力,1kv分辨率可達(dá)1.3nm
2. 日立專(zhuān)li的ExB設(shè)計(jì),不需噴鍍,可以直接觀測(cè)不導(dǎo)電樣品
3. Upper探頭可選擇接受二次電子像或背散射電子像
4. 可以根據(jù)樣品類(lèi)型和觀測(cè)要求選擇打開(kāi)或關(guān)閉減速功能
5. 標(biāo)配有冷指、電子槍內(nèi)置加熱器,物鏡光闌具有自清潔功能
6. 儀器的烘烤維護(hù)及烘烤后的透鏡機(jī)械對(duì)中均可由用戶(hù)自行完成
主要用途:
掃描電鏡(SEM)可觀察納米材料、材料斷口的分析、觀察原始表面、觀察區(qū)域細(xì)節(jié)、顯微結(jié)構(gòu)分析等。
X射線(xiàn)能譜儀可進(jìn)行成分的常規(guī)微區(qū)分析:元素定量、定性成分分析,實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,快速的多元素面掃描和線(xiàn)掃描分布測(cè)量。分析范圍Be4~U92。
已廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料、醫(yī)藥科學(xué)以及生物等領(lǐng)域。
二次電子分辨率 | 1.0nm(加速電壓15kV、WD=4mm) | |
1.3nm(加速電壓1kV、WD=1.5mm) | ||
加速電壓 | 0.1~30kV | |
觀測(cè)倍率 | 20~8000,000(底片輸出) | |
60~2,000,000(顯示器輸出) | ||
樣品臺(tái) | ||
馬達(dá)驅(qū)動(dòng) | 3軸馬達(dá) | |
5軸(選配) | ||
行程 | X | 0~50mm |
Y | 0~50mm | |
Z | 360° | |
T | -5~70° | |
R | 1.5~30mm | |
zui大裝載尺寸 | 100mm(zui大) | |
150mm(選配) | ||
探頭 | ||
標(biāo)配 | Lower | 高立體感圖像 |
Upper | 高分辨SE、BSE圖像 | |
選配 | STEM | 明場(chǎng)像、暗場(chǎng)像 |
YAG 探頭 | BSE圖像 | |
半導(dǎo)體探頭 | BSE圖像 | |
EBIC | 電子束感生電流圖像 | |
EDS | 元素分析 | |
反污染措施 | ||
冷指 | 標(biāo)配 | |
物鏡光闌 | 內(nèi)置自清潔功能 | |
電子槍 | 內(nèi)置加熱器 | |
真空系統(tǒng) | ||
離子泵 | 3臺(tái) | |
分子泵 | 1臺(tái) | |
機(jī)械泵 | 1臺(tái) |