5m3/h高純水設備專用美國GEEDI模塊E-cell-3xEDI電源帶數(shù)顯表
一、蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表膜堆原理
淡中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留；蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化、提純、濃縮或精制的目的。
二、蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表規(guī)格型號
淡中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留；蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水，而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化、提純、濃縮或精制的目的。
GE高純水制取設備蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表用于：
-
為電力、半導體、化工、冶金和一般工業(yè)等行業(yè)提供超純水；
-
連續(xù)地生產(chǎn)混床產(chǎn)水級質(zhì)量的超純水；
-
無需對模塊內(nèi)的混床樹脂進行酸堿再生；
-
保證不漏水；
-
無需鹽水注入和濃水循環(huán)，簡化了設計
蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表說明和用途
GE高純水制取設備EDI模塊E-Cell-3X為電去離子（EDI）模塊，利用電流對反滲透產(chǎn)水進行去離子和拋光處理。E-Cell-3X產(chǎn)水為超純水，適用于當今對水質(zhì)要求苛刻的行業(yè)。
蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表質(zhì)量保證
-
具有CE、UL和CSA標識；
-
由通過ISO 9001：2000認證的工廠制造。
二、蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表規(guī)格型號
- EDI模塊規(guī)格齊全，單個模塊產(chǎn)水量從 10 L/h到10m3/h。數(shù)十個模塊并聯(lián)可以產(chǎn)生一個幾乎無限規(guī)模的系統(tǒng)。在適當操作條件下運行，模塊可以生產(chǎn)出電阻率15—18 M的高純水。
- 微型：10 L/h，30 L/h，60 L/h，100 L/h，200 L/h
- 標準型：0．5 m3/h，1m3/h，2 m3/h，3 m3/h
- 大型：6 m3/h，8 m3/h，10 m3/h
三、蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表運行過程
1、淡水進水淡水室后，淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生離子交換，從而從水中脫離；
2、被交換的離子受電性吸引作用，陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移，并進入濃水室從而從淡水中去除。
3、離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過因離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；與此同時，由于進水中的離子被不斷的去除，那么淡水的純度將不斷的提高，待由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平；
4、水分子在電的作用下被不斷的離解為H+和OH-，H+和OH-將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)的再生。 過程1和過程3是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。
蘇伊士GEEDI模塊單模塊5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表GEEDI模塊蘇伊士膜堆5m3/hE-cell-3xEDI模塊電源帶數(shù)顯表電去離子（EDI）系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。
