TXRF8全反射X射線熒光分析儀
| 產(chǎn)品介紹 |
| 全反射X熒光（TXRF）分析技術(shù)是近年來才發(fā)展起來的多元素同時(shí)分析技術(shù)。TXRF利用全反射技術(shù)，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個(gè)量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強(qiáng)或減弱效應(yīng)；同時(shí)TXRF技術(shù)又繼承了EDXRF方法的*性。它突出的優(yōu)點(diǎn)是檢出限低（pg、ng/mL級以下）、用樣量少（μL、ng級）、準(zhǔn)確度高（可用內(nèi)標(biāo)法）、簡便、快速，而且可進(jìn)行無損分析，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。上每兩年召開一次TXRF分析技術(shù)討論會(huì)，該技術(shù)被譽(yù)為在分析領(lǐng)域是有競爭力的分析手段、在原子譜儀領(lǐng)域內(nèi)處于地位。 在X熒光譜儀范圍內(nèi)，與波長色散譜儀（WDXRF）方法比較，由于TXRF分析技術(shù)用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強(qiáng)或減弱效應(yīng)，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準(zhǔn)曲線。另外由于使用內(nèi)標(biāo)法，對環(huán)境溫度等要求很低。因而在簡便性、經(jīng)濟(jì)性、用樣量少等方面，都比WDXRF方法有明顯的*性。 在整個(gè)元素分析領(lǐng)域內(nèi)，TXRF技術(shù)可以對從鈉（11Na ）到鈾（92U）的所有元素進(jìn)行分析，一次可以對近30種元素進(jìn)行同時(shí)分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質(zhì)譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比較，TXRF分析方法在快速、簡便、經(jīng)濟(jì)、多元素同時(shí)分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優(yōu)勢。 |
| ◇ 應(yīng)用領(lǐng)域： |
| 主要特點(diǎn) |
| 1. 多元素同時(shí)分析：一次可分析近30種元素； 2. 檢出限低： zui低檢出限：pg級（10－12g）； zui低相對檢出限：ng/mL級（10－9）； 3. 靈敏度高： 采用了高靈敏度、高計(jì)數(shù)率的硅漂移（SDD）檢測器 采用特殊的二次全反射光路使儀器在不同能量范圍都能有較高靈敏度。 4. 測量元素范圍廣 可以從11號(hào)元素Na到92號(hào)元素U； 5. 樣品用量少 μL、μg級； 6. 直接測量 粉末樣品、懸浮液樣品等有平面的樣品都可直接進(jìn)行分析，zui低檢出限達(dá)到ng/g量級； 7. 測量時(shí)間短 一般在100秒～1000秒； 8. 安全穩(wěn)定 使用功率小于0.5kW，無須大功率，安全可靠。 9自動(dòng)化程度高，操作方便 10.應(yīng)用領(lǐng)域廣：適合于各種樣品類型和應(yīng)用領(lǐng)域；
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| 技術(shù)參數(shù) |
| 主要性能指標(biāo)： 1.zui低檢出限：pg級（10－12g）； 2.zui低相對檢出限：ng/mL級（10－9）； 3.重復(fù)性：1%-3%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L） 4.穩(wěn)定性：2%-4%（從常量到濃度為0.50mg/L-2.000mg/L） 5.單次可同時(shí)分析元素?cái)?shù)量：近30種； 6.分析元素范圍：Na-U 7.樣品用量：μL、μg級； 8.定量方法：基本參數(shù)法；內(nèi)標(biāo)法； 9.測量時(shí)間：少于1000S 10激發(fā)功率：小于500W 配置： 1. 光路系統(tǒng)：以光學(xué)玻璃為基體材料的基于全反射原理的雙光路全反射系統(tǒng)，包括光路、狹縫限束光欄及密封件殼。 2. 光源系統(tǒng)：高壓電源系統(tǒng)，雙X射線管激發(fā)系統(tǒng)，水冷及控制系統(tǒng) 3. 數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng)：硅漂移探測器（SDD）、譜儀放大器、多道分析器 4. 機(jī)械調(diào)節(jié)系統(tǒng)：控制板卡，固態(tài)繼電器組，步進(jìn)電機(jī)及相關(guān)對X射線管和樣品托運(yùn)動(dòng)機(jī)械系統(tǒng)和傳感器 5. 計(jì)算機(jī)、打印機(jī) 6. 軟件系統(tǒng)：獲取軟件、分析應(yīng)用軟件 7. 機(jī)柜 8. X射線屏蔽系統(tǒng) |
