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晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等
供應(yīng):東莞EDI高純水裝置,二級反滲透加EDI高純水裝置,深圳EDI高純水裝置,湖南EDI高純水裝置,邵陽EDI高純水裝置,湖北EDI高純水裝置,武漢EDI高純水裝置,黃岡EDI高純水裝置,邵東EDI高純水裝置,邵陽EDI高純水裝置,長沙EDI高純水裝置,石碣EDI高純水裝置,萬江EDI高純水裝置,高步EDI高純水裝置,茶山EDI高純水裝置,石龍EDI高純水裝置
EDI高純水裝置技術(shù)概況:
填充床電滲析又稱電去離子法(Electrodeionization),簡稱EDI,它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對離子交換填充床進行電化學(xué)再生,集中了電滲析和離子交換法的優(yōu)點,克服了兩者的弊端。EDI高純水裝置技術(shù)結(jié)合了兩種成熟的水處理技術(shù)—電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù),我國稱此為填充床電滲析或電去離子技術(shù)。它主要替代傳統(tǒng)的離子交換混床來生產(chǎn)高純水,這種技術(shù)國外已在電子、電力、化工等行業(yè)制備EDI高純水裝置方面得到推廣應(yīng)用??梢灶A(yù)期,這種水處理產(chǎn)品將成為本世紀(jì)制備高純水工程中的主流設(shè)備。這種技術(shù)及相關(guān)技術(shù)的應(yīng)用將會使原有的水處理技術(shù)產(chǎn)生某些根本性的變革,從而取得更良好的環(huán)保和經(jīng)濟效益。
EDI高純水裝置(電除鹽系統(tǒng))工作原理:
高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要,比如:半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而,膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且,膜處理過程在機械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多,并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI高純水裝置處理過程是膜處理過程中增長zui快的業(yè)務(wù)之一。EDI高純水裝置是帶有特殊水槽的非反向電滲析(ED),這個水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI高純水裝置主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水
EDI超純水裝置優(yōu)勢:
- 占地空間小,省略了混床和再生裝置;
2.產(chǎn)水連續(xù)穩(wěn)定,出水質(zhì)量高,而混床在樹脂臨近失效時水質(zhì)會變差;
3.運行費用低,再生只耗電,不用酸堿,節(jié)省材料費用;
4.環(huán)保效益顯著,增加了操作的安全性;
EDI高純水裝置應(yīng)用領(lǐng)域
一、電子、半導(dǎo)體、精密機械行業(yè)超純水
二、制藥工業(yè)工藝用水
三、食品、飲料、飲用水的制備
四、精細化工、精尖學(xué)科用水
五、其他行業(yè)所需的高純水制備
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