次亞磷去除劑HMC-P3,是湛清環(huán)保與清華大學,針對次亞磷廢水共同開發(fā)的*除磷藥劑,通過均相共沉淀技術,能夠讓水中的含磷污染物快速形成不溶性沉淀物而去除。主要應用于電鍍廢水除磷、線路板廢水除磷以及化工廢水除磷等,能夠把磷處理至0.5ppm以下,達到國家表三排放標準。
一.藥劑參數
名稱 | 次亞磷去除劑 | 外觀 | 白色粉末 | ||
品牌 | HMC | 型號 | P3 | ||
有效物質含量 | 99(%) | 包裝規(guī)格 | 25KG/袋 | ||
pH值使用范圍 | 3-6 | 作用 | 電鍍廢水除磷 |
二、次亞磷去除劑:處理電鍍含次磷廢水產品簡介
次亞磷去除劑HMC-P3是湛清環(huán)保研發(fā)人員針對次亞磷酸鹽廢水開發(fā)的除磷藥劑,該藥劑能夠通過均相共沉淀技術,與水中的次亞磷酸鹽結合生成不溶性沉淀,把總磷處理至0.5mg/L以下,是化學鍍、磷化工等行業(yè)處理含次亞磷廢水的*強效藥劑。相比于其他方法,該藥劑具有以下優(yōu)勢:
1、總磷去除率高,可以直接達標
次亞磷廢水主要產生于化學鍍鎳工藝以及磷化工生產中,傳統工藝采用芬頓氧化技術,將次亞磷氧化為正磷,再進行沉淀處理,但是由于氧化效果差,磷的去除率低。而次亞磷去除劑HMC-P3,卻可以直接與次亞磷結合生成沉淀,無需轉化為正磷進行處理,去除效果好,總磷直接達標。
2、工藝簡單,污泥少,成本低
次亞磷去除劑HMC-P3在處理含次亞磷廢水時,相對于芬頓氧化、石灰沉淀等方法,工藝簡單;同時,產生的污泥量少,成本低廉。
3、具有除磷、除重金屬、降COD等多重功效
次亞磷去除劑需要在雙氧水的催化下發(fā)生作用,由于雙氧水的弱氧化作用,在進行處理化學鍍鎳廢水時,HMC-P3具有一部分的破絡作用,同時,針對不用類型的含次亞磷廢水,能夠把其中的COD進行降解。
三、使用流程
1、次亞磷去除劑:處理電鍍含次磷廢水操作步驟
1) 調節(jié)廢水pH;
2) 按照計算好的用量依次加入HMC-P3/雙氧水,攪拌反應30min;
3) NaOH回調pH,攪拌均勻;
4) 每升水加入0.1% 的PAM溶液5ml,緩慢攪拌約2min;
5) 停止攪拌,上清液過濾測總磷;
2、注意事項
1) pH控制以pH計為準,不可使用pH試紙代替;
2) HMC-P3可直接投加,也可配成10-20%的乳液;
3) 0.1%的非離子PAM應提前配制,攪拌30min至充分溶解后使用;
4) 若固液分離采用沉淀工藝,應沉淀2h以上;固液分離也可采用微濾、壓濾等方式,分離更*;
5) 對于化學鍍鎳廢水中的次亞磷,如果需要除磷除鎳,那么在進行設計時,可以先除磷,再除鎳,通過沉淀除磷以后,將出水pH調節(jié)至堿性,再添加高效除鎳劑HMC-M2進行螯合反應,鎳磷均可達標。