超純水設(shè)備是一款制備半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路等行業(yè)清洗半成品、成品用純水、高純水、超純水的裝置。
電路板用水特征
1. 大規(guī)模集成電路元器件的生產(chǎn)用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國(guó)家有關(guān)用水標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997)執(zhí)行。
2. 電子元件廠，在焊接和組裝過(guò)程中的沖洗用水。依據(jù)電子元件生產(chǎn)工藝不同，其用水標(biāo)準(zhǔn)中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(jí)(一級(jí)* 高電導(dǎo)率18MO-CM以上，二級(jí)電阻率不低于15MO-CM，3級(jí)電阻率12MO-CM, 4級(jí)為0.5MO-CM)。
設(shè)備特點(diǎn)
電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用*和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。
設(shè)備流程
1、采用離子交換方式，其流程如下:自來(lái)水→電動(dòng)閥→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂床→陰樹(shù)脂床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混合床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下:自來(lái)水→電動(dòng)閥→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透主機(jī)→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級(jí)反滲透主機(jī)(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下(* 新工藝):自來(lái)水→電動(dòng)閥→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過(guò)濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
6、其他高科技精微產(chǎn)品。
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