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閱讀：762發(fā)布時(shí)間：2017-2-14
造成SCR工藝的脫硝裝置氨逃逸濃度大于3ppm的原因比較多，無非人、機(jī)、料、法、環(huán)五方面，其中zui直接的也是zui主要的原因包括：
裝置本身的催化劑模塊箱間的安裝密封是否可靠?催化劑模塊箱的安裝策略，以及模塊箱之間上下密封件的結(jié)構(gòu)形式、安裝質(zhì)量，決定了裝置本身固有的煙氣旁路逃逸的程度。
是否過量噴氨?在SCR裝置催化還原能力的額定參數(shù)范圍內(nèi)，氨逃一般隨噴氨量增加而增加。出現(xiàn)過量噴氨，一方面可能是SCR裝置入口煙氣中的NOX濃度偏高造成，另一種可能是飛灰堵塞了催化劑表面的毛細(xì)孔，或催化劑失效、失活等因素，影響了催化劑的還原能力所致。
另外，不可忽略的間接原因有：
催化劑飛灰堆積、堵塞與磨損：來自省煤器出口的爆米花狀的大顆粒灰團(tuán)，或者來自反應(yīng)器頂部局部的大塊團(tuán)灰集中坍塌，堵塞了催化劑的入口小孔，造成催化劑有效過煙表面減少，煙氣從未堵塞的催化劑表面通過時(shí)速度加快并快速磨損，直至過煙的催化劑局部出現(xiàn)磨損塌陷失效，氨氣隨煙氣直接從磨損塌陷處逃逸。
煙氣中氨氣分布不均：稀釋后的氨氣在SCR進(jìn)口煙道中的二次拌和不理想，出現(xiàn)在反應(yīng)室時(shí)的氨氣存在分布不均的現(xiàn)象，局部濃度高的地方氨逃量就會(huì)大些。這種不均勻，可能是噴氨格柵各路供氨節(jié)流調(diào)節(jié)不理想造成，也可能是噴氨格柵管道磨穿等原因造成，需要在運(yùn)行階段加以調(diào)控(而后者往往已經(jīng)很難調(diào)控)。
測(cè)量裝置取樣點(diǎn)不具有代表性：由于煙氣取樣測(cè)點(diǎn)分布較少，煙道內(nèi)煙氨混合氣體中的氨氣濃度分布均勻性本來就不好，或者取樣點(diǎn)口部飛灰粘黏作用，使所取到的煙氣樣品參數(shù)偏離實(shí)際，反應(yīng)不了氨氣濃度瞬態(tài)平均水平。
還有其他一些次要因素，如人的因素等。
鑒于此，解決氨逃逸濃度大于3ppm的問題，應(yīng)從主要原因、直接原因上下手。在設(shè)計(jì)制作安裝階段，應(yīng)盡可能采取措施，降低SCR裝置本身固有的煙氣旁路逃逸水平，以實(shí)現(xiàn)氨逃逸率<1ppm。
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