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北京哲勤科技有限公司
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| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號RPX-210, RPX-540
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地上海市
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更新時間：2023-05-31 09:05:26瀏覽次數(shù)：2383次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線美國IST（ Integrated Surface Technologies）公司 具有權(quán)的 Repellix 原子層沉積表面改性設(shè)備，使用ALD原子層沉積的方法，在分子級水平改善材料表面性質(zhì)，可使材料具有親水（提高表面能）、疏水（降低表面能）、超疏水、防水防油、生物兼容性能，且持續(xù)時間長。
此設(shè)備廣泛應(yīng)用于MEMS、納米壓印、微流控、生命科學(xué)、電子產(chǎn)品等領(lǐng)域。
美國ist(integrated surface technologies)公司 repellix 原子沉積表面改性(親水、超疏水、防水設(shè)備）
——美國ist公司為pva tepla的戰(zhàn)略合作公司
型號：rpx-210, rpx-540, rpx-560
典型應(yīng)用:
表面改性（微流控芯片管道表面改性）
mems表面抗粘合層（提高mems器件的抗摩擦性）
半導(dǎo)體制造和封裝涂層
dna微陣列
生物兼容性改性
親水 μ流體薄膜
疏水保護薄膜（）
提高表面粘附性
無機氧化物原子沉積
控制：
pc精密控制，形成單分子層，可設(shè)置連續(xù)或交替進行。
靈活的控制系統(tǒng)，允許自行設(shè)計工藝，形成特色納米結(jié)構(gòu)。
同一設(shè)備更換不同單體可完成不同工藝。
優(yōu)勢：
靈活的工藝步驟
自然沉積，均勻性*
重復(fù)性好
低成本
適用大批量生產(chǎn)
配置：
腔體大?。?17.5×243.84×254 mm
運行真空度：10 torr（100℃）
腔室溫度：85℃
設(shè)備大小：1016×965.2×914.4 mm
回充氣體：n2 或cda (5.5 bar)
pc控制
多達(dá)32,000可編程步驟
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