污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
無(wú)錫杰博電器科技有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)Innovate T5
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地無(wú)錫市
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更新時(shí)間:2018-10-26 15:28:24瀏覽次數(shù):930次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線波長(zhǎng)范圍 | 140-680nm | 光源 | 數(shù)字光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS) |
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焦距 | 401mm | 適用范圍 | 鑄造、冶金、機(jī)械、科研、工業(yè) |
供貨周期 | 7天 | 外形尺寸 | 780*565*360mm |
儀器類(lèi)型 | 便攜型 | 重量 | 78kg |
自動(dòng)程度 | 自動(dòng)波長(zhǎng) |
CMOS直讀光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的極低檢出限,整機(jī)設(shè)計(jì)合理,操作簡(jiǎn)單易學(xué),具有數(shù)據(jù)精準(zhǔn),*穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
CMOS直讀光譜儀產(chǎn)品介紹
無(wú)錫杰博電器科技有限公司專業(yè)生產(chǎn)全譜直讀光譜儀,直讀光譜儀,高頻紅外碳硫分析儀系列產(chǎn)品。Innovate T5型CMOS全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù),應(yīng)用了日本濱松公司進(jìn)的CMOS信號(hào)采集元件,每塊CMOS都可以單獨(dú)設(shè)值火花個(gè)數(shù),與光譜儀技術(shù)同步,采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對(duì)非金屬元素的極低檢出限,整機(jī)設(shè)計(jì)合理,操作簡(jiǎn)單易學(xué),具有數(shù)據(jù)精準(zhǔn),*穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)。
CMOS直讀光譜儀應(yīng)用領(lǐng)域
冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車(chē)、石化、造船、電力、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。
可檢測(cè)基體
鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
主要技術(shù)參數(shù)
光學(xué)系統(tǒng):帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍:140-680nm
光柵焦距:401mm
探 測(cè) 器:高性能CMOS陣列/CCD陣列
光源類(lèi)型:數(shù)字光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS)
放電頻率:100-1000Hz
放電電流:500A
工作電源:AC220V 50/60Hz 1000W
儀器尺寸:780*565*360mm
儀器重量:78kg
檢測(cè)時(shí)間:依據(jù)樣品類(lèi)型而定,一般20S左右
電極類(lèi)型:鎢材噴射電極
分析間隙:4mm
其他功能:真空,溫度,軟件自動(dòng)控制;壓力,通訊監(jiān)測(cè)
主要特點(diǎn)
高性能光學(xué)系統(tǒng)
采用高精度的CMOS元件可精確測(cè)定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量;測(cè)定結(jié)果精準(zhǔn),重復(fù)性及*穩(wěn)定性。
自動(dòng)光路校準(zhǔn)
自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作;
儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定。
插拔式透鏡設(shè)計(jì)
真空光學(xué)系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進(jìn)行操作,光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu),日常清洗維護(hù)方便快捷。真空防返油技術(shù)
多級(jí)隔離的真空防返油技術(shù),采用真空壓差閥門(mén)保證真空泵不工作時(shí)真空光室與真空*隔離;中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進(jìn)入真空室,保障CMOS檢測(cè)器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。
開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)
開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)機(jī)靈活的樣品夾設(shè)計(jì),以滿足客戶現(xiàn)場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析;配合使用小樣品夾具,線材低分析可達(dá)到3mm。
噴射電極技術(shù)
采用進(jìn)的噴射電極技術(shù),使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周?chē)鷷?huì)形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周?chē)粫?huì)與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度;配上*氬氣氣路設(shè)計(jì),大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。
集成氣路模塊
氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護(hù)設(shè)計(jì),替代電磁閥和流量計(jì),電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。
數(shù)字化激發(fā)光源
數(shù)字激發(fā)光源,采用為*的等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品;可任意調(diào)節(jié)光源的各項(xiàng)參數(shù),滿足各種不同材料的激發(fā)要求。
高速數(shù)據(jù)采集
儀器采用高性能CMOS檢測(cè)元件,具有每塊CMOS單獨(dú)超高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀態(tài)。
以酞數(shù)據(jù)傳輸
計(jì)算機(jī)和光譜儀之間使用以酞網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時(shí)計(jì)算機(jī)和打印機(jī)*外置,方便升級(jí)和更換;可以遠(yuǎn)程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。
預(yù)制工作曲線
備有不同材質(zhì)和牌號(hào)的標(biāo)樣庫(kù),儀器出廠時(shí)工廠預(yù)制工作曲線,方便安裝調(diào)試和及時(shí)投入生產(chǎn);根據(jù)元素和材質(zhì)對(duì)應(yīng)的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測(cè)試參數(shù)儀器出廠時(shí)已經(jīng)調(diào)節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動(dòng)選擇優(yōu)測(cè)試條件。
分析速度快
分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析;針對(duì)不同的分析材料,通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及測(cè)量時(shí)間,使儀器用短時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果。
多基體分析
光路設(shè)計(jì)采用羅蘭圓結(jié)構(gòu),檢測(cè)器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設(shè)施,即可實(shí)現(xiàn)多基體分析;便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類(lèi)和分析元素(無(wú)硬件成本)。
軟件中英文系統(tǒng)
儀器軟件操作簡(jiǎn)單,*兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)。
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