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昆山國華電子科技有限公司
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產(chǎn)品型號GH-13MH
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地蘇州市
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更新時間:2019-08-21 11:00:07瀏覽次數(shù):517次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線昆山國華等離子處理設備去半導體氧化膜:對具有半導體特性的一類氧化物。氧化物半導體的電學性質(zhì)與環(huán)境氣氛有關。導電率隨氧化氣氛而增加稱為氧化型半導體,是p型半導體;電導率隨還原氣氛而增加稱為還原型半導體,是n型半導體;導電類型隨氣氛中氧分壓的大小而成p型或n型半導體稱為兩性半導體。非單晶氧化物可用純金屬高溫下直接氧化或通過低溫化學反應(如金屬氯化物與水的復分解反應)來制備。氧化物單晶的制
昆山國華等離子處理設備去半導體氧化膜
作為"新一代電子的基礎材料"而備受顯示器技術人員關注的就是氧化物半導體TFT。因為氧化物半導體TFT是驅(qū)動超高精細液晶面板、有機EL面板以及電子紙等新一代顯示器的TFT材料佳候選之一。預計早將在2012~2013年開始實用化,將來或許還會成為具備"柔性"和"透明"等特點的電子元件的實現(xiàn)手段。
氧化物半導體是通常容易成為絕緣體的氧化物,但卻具有半導體的性質(zhì)。在眾多物質(zhì)當中,受關注的是"透明非晶氧化物半導體(TAOS:TransparentAmorphous Oxide Semiconductors)"。非晶IGZO(In-Ga-Zn-O)就是一個代表性例子。除了三星和LG顯示器等韓國企業(yè)外,日本的夏普、凸版印刷以及佳能等企業(yè)也在致力于TFT的應用開發(fā)。
TAOS類TFT的載流子遷移率高達250px2/Vs以上,特性不均現(xiàn)象也較小。因此,可驅(qū)動像素為"4K×2K"(4000×2000像素級)、驅(qū)動頻率為240Hz的新一代高清晰液晶顯示器。當前的標準技術--非晶硅類TFT以及作為新一代技術而被大力開發(fā)的有機半導體TFT因載流子遷移率只有數(shù)cm2/Vs以下,很難應用到上述用途中。即使是在有機EL顯示器領域,與開發(fā)案例較多的低溫多晶硅類TFT相比,實現(xiàn)大屏幕化時還是TAOS類TFT具有優(yōu)勢這是因為AOS類TFT可以抑制有機EL面板中存在著的因TFT特性不均而導致的顯示不均現(xiàn)象。TAOS薄膜可通過濺射法形成,制造成本也容易降低。
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