應(yīng)用
(1)電合成、電沉積(電鍍)、陽極氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究;
(2)電化學(xué)分析研究;
(3)能源材料(鋰離子電池、太陽能電池、燃料動(dòng)力電池和超級(jí)電容器等)、*功能材料以及傳感器的性能研究;
(4)金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評(píng)價(jià);
(5)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評(píng)價(jià)。
硬件特點(diǎn)
● 雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
● 高帶寬高輸入阻抗的放大器
● 內(nèi)置FPGA DDS信號(hào)合成器
● 高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計(jì)
● 電壓控制范圍:±10V,槽壓為±21V(可擴(kuò)展至±200V)
● 電流控制范圍:±2.0A(可擴(kuò)展至20A)
● 電位分辨率:10μV,電流分辨率:1pA(可延伸至100fA)
① 數(shù)據(jù)分析
① 交流阻抗
CS系列電化學(xué)工作站的電流控制范圍為±2.0A,槽壓輸出≥21V,可滿足燃料動(dòng)力電池、大功率電池充放電、電化學(xué)電解或電沉積等領(lǐng)域的需求。采用專用的功率擴(kuò)展器,輸出電流可達(dá)20A,槽壓±200V。
⑥ 全浮地測(cè)量
CS系列電化學(xué)工作站采用全浮地式工作電極,可用于工作電極本身接地體系的電化學(xué)研究,如用于高壓釜電化學(xué)測(cè)試(釜體接地),大地中金屬構(gòu)件(橋梁、混凝土鋼筋)的在線腐蝕研究等。
⑦ 光電測(cè)試模塊
CS電化學(xué)工作站可以與光強(qiáng)計(jì)、分光光度計(jì)聯(lián)用,用于光電化學(xué)測(cè)量,在進(jìn)行電化學(xué)測(cè)量的同時(shí)記錄光電流或光譜響應(yīng)信號(hào)。
⑧ 自定義方法
支持用戶自定義組合測(cè)量,用戶可以設(shè)定定時(shí)循環(huán)進(jìn)行某一測(cè)試方法或多種方法的組合測(cè)試,用于無人值守下的定時(shí)自動(dòng)測(cè)量;
提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實(shí)例,方便用戶二次開發(fā)和自定義測(cè)試方法;
提供用戶自定義腳本編寫范例,用于實(shí)現(xiàn)您*的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)。
恒電位控制范圍:±10V | 恒電流控制范圍:±2.0A |
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù) |
電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電流靈敏度:1pA |
電位上升時(shí)間:﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) | 電流量程:2nA~2A, 共10檔 |
參比電極輸入阻抗:1012Ω||20pF | 輸出電流:2.0A |
槽壓輸出:±21V (可擴(kuò)展至±200V) | 電流掃描增量:1mA @1A/mS |
CV和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s | 電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS |
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s | DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s |
SWV頻率:0.001~100KHz | CV的最小電位增量:0.075mV |
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz,20bit @1KHz | 電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置 |
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS | 低通濾波器 :8段可編程 |
通訊接口:USB2.0 | 儀器重量:6.5Kg |
外形尺寸(cm):36.4(W)X32.0 (D)X16.0 (H) |
電化學(xué)阻抗測(cè)量指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器 | |
頻率響應(yīng):10μHz~1MHz | 交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV |
頻率精確度:0.005% | 信號(hào)分辨率:0.1mV RMS |
DDS輸出阻抗:50Ω | 直流偏壓:-10V~+10V |
正弦波失真率:<1% | 波形:正弦波,三角波,方波 |
掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降 | |
信號(hào)分析器 | |
積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S | 測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒 |
最小積分時(shí)間:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的最長(zhǎng)時(shí)間 | |
直流偏置補(bǔ)償 | |
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V | 電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A |
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào) |
配置
1)儀器主機(jī)1臺(tái)
2)CS Studio測(cè)試與分析軟件1套
3)模擬電解池1個(gè)
4)電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
5)電極電纜線1條
6)電腦(選配*)
功能方法 | CS150H | CS300H | CS310H | CS350H | |
穩(wěn)態(tài)極化 | 開路電位(OCP) | ● | ● | ● | ● |
恒電位極化(i-t曲線) | ● | ● | ● | ● | |
恒電流極化 | ● | ● | ● | ● | |
動(dòng)電位掃描(Tafel曲線) | ● | ● | ● | ● | |
動(dòng)電流掃描(DGP) | ● | ● | ● | ● | |
電位掃描-階躍 | ● | ||||
暫態(tài)極化 | 任意恒電位階梯波 | ● | ● | ● | ● |
任意恒電流階梯波 | ● | ● | ● | ● | |
恒電位階躍(VSTEP) | ● | ● | ● | ● | |
恒電流階躍(ISTEP) | ● | ● | ● | ● | |
計(jì)時(shí)分析 | 計(jì)時(shí)電位法(CP) | ● | ● | ● | |
計(jì)時(shí)電流法(CA) | ● | ● | ● | ||
計(jì)時(shí)電量法(CC) | ● | ● | ● | ||
伏安分析 | 線性掃描伏安(LSV) | ● | ● | ● | ● |
線性循環(huán)伏安(CV) | ● | ● | ● | ● | |
階梯循環(huán)伏安(SCV) | ● | ● | |||
方波伏安(SWV) | ● | ● | |||
差分脈沖伏安(DPV) | ● | ● | |||
常規(guī)脈沖伏安(NPV) | ● | ● | |||
差分常規(guī)脈沖伏安(DNPV) | ● | ● | |||
交流伏安(ACV) | ● | ● | |||
二次諧波交流伏安(SHACV) | ● | ● | |||
傅里葉變換交流伏安(FTACV) | ● | ● | |||
電流檢測(cè) | 差分脈沖電流檢測(cè)(DPA) | ● | |||
雙差分脈沖電流檢測(cè)(DDPA) | ● | ||||
三脈沖電流檢測(cè)(TPA) | ● | ||||
積分脈沖電流檢測(cè)(IPAD) | ● | ||||
溶出伏安 | 電位溶出分析(PSA) | ● | ● | ||
線性掃描溶出伏安(LSSV) | ● | ● | |||
階梯溶出伏安(SCSV) | ● | ● | |||
方波溶出伏安(SWSV) | ● | ● | |||
差分脈沖溶出伏安(DPSV) | ● | ● | |||
常規(guī)脈沖溶出伏安(NPSV) | ● | ● | |||
差分常規(guī)脈沖溶出伏安(DNPSV) | ● | ● | |||
交流阻抗 | 阻抗-頻率掃描 | ● | ● | ||
阻抗-時(shí)間掃描 | ● | ● | |||
阻抗-電位掃描(Mott-Schottky 曲線) | ● | ● | |||
充放電測(cè)試 | 電池充放電 | ● | ● | ● | ● |
恒電流充放電(GCD) | ● | ● | ● | ● | |
恒電位充放電 | ● | ● | ● | ● | |
恒電位間歇滴定技術(shù)(PITT) | ● | ● | ● | ● | |
恒電流間歇滴定技術(shù)(GITT) | ● | ● | ● | ● | |
雙恒測(cè)量 | 氫擴(kuò)散測(cè)試(HDT) | ||||
盤環(huán)電極測(cè)試 | |||||
擴(kuò)展測(cè)量 | 電化學(xué)噪聲(EN) | ● | ● | ● | ● |
數(shù)字記錄儀 | ● | ● | ● | ● | |
電化學(xué)溶解/沉積 | ● | ● | ● | ● | |
控制電位電解庫(kù)倫法(BE) | ● | ● | ● | ● | |
動(dòng)電位再活化法(EPR) | ● | ● | ● | ● | |
溶液電阻測(cè)量 | ● | ● | ● | ● | |
循環(huán)極化曲線(CPP) | ● | ● | ● | ● |
*光電測(cè)量功能用戶選配。
*產(chǎn)品3年質(zhì)保。