(3)電合成、電沉積(電鍍)、陽(yáng)極氧化、電解等反應(yīng)機(jī)理研究;
(4)金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評(píng)價(jià);
(5)緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護(hù)效率的快速評(píng)價(jià)。
硬件特點(diǎn)
軟件特點(diǎn)
① 數(shù)據(jù)分析
② 實(shí)時(shí)存儲(chǔ)
③ 定時(shí)測(cè)量
具有恒流阻抗測(cè)試功能,尤其適合于18650、軟包電池等超低阻儲(chǔ)能器件的交流阻抗測(cè)量,也可用于Mott-Schottky曲線和微分電容曲線繪制。
② 極化曲線
具有線性極化和Tafel極化曲線測(cè)量功能,用戶(hù)可設(shè)定循環(huán)極化曲線的陽(yáng)極回掃電流(鈍化膜擊穿電流),來(lái)確定材料的點(diǎn)蝕電位和保護(hù)電位,評(píng)價(jià)晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析極化曲線,可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評(píng)價(jià)。
鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液中的動(dòng)電位極化曲線,掃描速率為1mV/s
③ 伏安分析
能完成線性掃描伏安(LSV)、循環(huán)伏安(CV)、階梯伏安(SCV)、方波伏安(SWV)、差分脈沖伏安(DPV)、交流伏安(ACV)、溶出伏安等多種電分析方法,集成峰面積、峰電流計(jì)算和標(biāo)準(zhǔn)曲線分析功能。
聚吡咯超級(jí)電容器在0.5 mol/L H2SO4 溶液中的CV曲線 鉑電極在3 mmol/L K4[Fe(CN)6]+ 0.4 mol/L KCl溶液中的CV曲線(100mV/s)
④ 電化學(xué)噪聲
⑤ 全浮地測(cè)量
CS系列電化學(xué)工作站采用全浮地式工作電極,可用于工作電極本身接地體系的電化學(xué)研究,如用于高壓釜電化學(xué)測(cè)試(釜體接地),大地中金屬構(gòu)件(橋梁、混凝土鋼筋)的在線腐蝕研究等。
⑥ 正反饋IR補(bǔ)償
啟動(dòng)IR補(bǔ)償后,電化學(xué)工作站會(huì)增加一個(gè)額外模擬反饋路徑,通過(guò)測(cè)量電解池電流,啟用正反饋補(bǔ)償,硬件電路增加反饋信號(hào),自動(dòng)對(duì)Rs上的壓降進(jìn)行補(bǔ)償。
⑦ 自定義方法
硬件參數(shù)指標(biāo)
恒電位控制范圍:±10V | 恒電流控制范圍:±5.0A |
電位控制精度:0.1%×滿(mǎn)量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度:0.1%×滿(mǎn)量程讀數(shù) |
電位分辨度:10μV | 電流靈敏度:10pA |
電位上升時(shí)間:<1μS(<10mA),<10μS(<5A) | 電流量程:5A~200pA, 共12檔 |
參比電極輸入阻抗:1012Ω||20pF | 輸出電流:5.0A |
槽壓輸出:±13V | 電流掃描增量:1mA @1A/mS |
CV和LSV掃描速度:0.001mV~10V/s | 電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS |
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s | DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s |
SWV頻率:0.001~100KHz | CV的最小電位增量:0.075mV |
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz,20bit @1kHz | 電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置 |
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS | 低通濾波器 :8段可編程 |
通訊接口:USB2.0 | 儀器重量:8Kg |
外形尺寸(cm):36.4(W) x 38.4(D) x 13.8 (H) |
電化學(xué)阻抗測(cè)量指標(biāo)
信號(hào)發(fā)生器 | |
頻率響應(yīng):10μHz~1MHz | 交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV |
頻率精確度:0.005% | 直流偏壓:-10V~+10V |
DDS輸出阻抗:50Ω | 波形:正弦波,三角波,方波 |
正弦波失真率:<1% | 掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降 |
信號(hào)分析器 | |
積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S | 測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒 |
最小積分時(shí)間:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的最長(zhǎng)時(shí)間 | |
直流偏置補(bǔ)償 | |
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V | 電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A |
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào) |
功能方法 | CS1150 | CS1350 | |
穩(wěn)態(tài)極化 | 開(kāi)路電位(OCP) | ● | ● |
恒電位極化(i-t曲線) | ● | ● | |
恒電流極化 | ● | ● | |
動(dòng)電位掃描(Tafel曲線) | ● | ● | |
動(dòng)電流掃描(DGP) | ● | ● | |
電位掃描-階躍 | ● | ||
暫態(tài)極化 | 任意恒電位階梯波 | ● | ● |
任意恒電流階梯波 | ● | ● | |
恒電位階躍(VSTEP) | ● | ● | |
恒電流階躍(ISTEP) | ● | ● | |
計(jì)時(shí)分析 | 計(jì)時(shí)電位法(CP) | ● | ● |
計(jì)時(shí)電流法(CA) | ● | ● | |
計(jì)時(shí)電量法(CC) | ● | ● | |
伏安分析 | 線性掃描伏安(LSV) | ● | ● |
線性循環(huán)伏安(CV) | ● | ● | |
階梯循環(huán)伏安(SCV) | ● | ||
方波伏安(SWV) | ● | ||
差分脈沖伏安(DPV) | ● | ||
常規(guī)脈沖伏安(NPV) | ● | ||
差分常規(guī)脈沖伏安(DNPV) | ● | ||
交流伏安(ACV) | ● | ||
二次諧波交流伏安(SHACV) | ● | ||
傅里葉變換交流伏安(FTACV) | ● | ||
電流檢測(cè) | 差分脈沖電流檢測(cè)(DPA) | ● | |
雙差分脈沖電流檢測(cè)(DDPA) | ● | ||
三脈沖電流檢測(cè)(TPA) | ● | ||
積分脈沖電流檢測(cè)(IPAD) | ● | ||
溶出伏安 | 電位溶出分析(PSA) | ● | |
線性掃描溶出伏安(LSSV) | ● | ||
階梯溶出伏安(SCSV) | ● | ||
方波溶出伏安(SWSV) | ● | ||
差分脈沖溶出伏安(DPSV) | ● | ||
常規(guī)脈沖溶出伏安(NPSV) | ● | ||
差分常規(guī)脈沖溶出伏安(DNPSV) | ● | ||
交流阻抗 | 阻抗-頻率掃描 | ● | |
阻抗-時(shí)間掃描 | ● | ||
阻抗-電位掃描(Mott-Schottky 曲線) | ● | ||
恒電流阻抗測(cè)試 | ● | ||
充放電測(cè)試 | 電池充放電 | ● | ● |
恒電流充放電(GCD) | ● | ● | |
恒電位充放電 | ● | ● | |
恒電位間歇滴定技術(shù)(PITT) | ● | ● | |
恒電流間歇滴定技術(shù)(GITT) | ● | ● | |
擴(kuò)展測(cè)量 | 電化學(xué)噪聲(EN) | ● | ● |
電偶腐蝕測(cè)量(ZRA) | ● | ● | |
電化學(xué)溶解/沉積 | ● | ● | |
控制電位電解庫(kù)倫法(BE) | ● | ● | |
溶液電阻測(cè)量 | ● | ● | |
循環(huán)極化曲線(CPP) | ● | ● |