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詳細(xì)介紹
150AT全自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)
全自動(dòng)應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)
150AT 應(yīng)力雙折射系統(tǒng)是應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)家族系列產(chǎn)品。該應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)既可作為實(shí)驗(yàn)室科研探索測(cè)量光學(xué)組件應(yīng)力分布測(cè)量，也可用作諸如玻璃面板，透鏡，晶體，硅/多晶硅、注塑成品等工業(yè)生產(chǎn)中檢測(cè)產(chǎn)品應(yīng)力分布。產(chǎn)品軟件直觀顯示待測(cè)樣品應(yīng)力情況，便于操作和日常監(jiān)測(cè)。
150AT 應(yīng)力雙折射系統(tǒng)可以根據(jù)客戶(hù)需求選擇設(shè)置，使得測(cè)量更有針對(duì)性（高精度/大范圍相位延遲量），系統(tǒng)有著測(cè)量速度的同時(shí)也具有的測(cè)量分辨能力（<1 mm="" grid="" spacing="">等設(shè)計(jì)來(lái)幫助客戶(hù)完成一些非常規(guī)掃描/測(cè)量需求。
產(chǎn)品特點(diǎn)
自動(dòng)X/Y位移平臺(tái)掃描
二維/三維圖形/參數(shù)表格顯示樣品應(yīng)力分布測(cè)量結(jié)果
臺(tái)式整機(jī)設(shè)計(jì)組裝
靈活位移平臺(tái)設(shè)計(jì)，滿足個(gè)性化定制需求
強(qiáng)大數(shù)據(jù)擬合分析功能和友好用戶(hù)界面
參數(shù)
高精度測(cè)量系統(tǒng)選項(xiàng) | 大范圍相位延遲量測(cè)量選項(xiàng) | |
相位延遲量范圍: | 0.005 to 120+ nm | 0.005 to 300+ nm |
相位延遲量測(cè)量分辨率/ | 0.001 nm / ± 0.008 nm | 0.0 1 nm / ± 0.015 nm |
角度測(cè)量分辨率 / | 0.01o / ± 0.05° | 0.01o / ± 0.07° |
測(cè)量速率 / 時(shí)間4: | up to 100 pps / | |
尺寸: | 910 mm (H) x 415 mm (W) x 700 mm (D) | |
光源波長(zhǎng)5: | Various (632.8 nm standard) | |
測(cè)量光斑6: | Between 1 mm and 3 mm native | |
內(nèi)置測(cè)量調(diào)制頻率: | PEMLabsTM Photoelastic Modulator | |
解調(diào)分析技術(shù): | Hinds Instruments SignalocTM | |
測(cè)量單位: | nm (retardation), ° (angle) |
1 Typical performance at 5 nm retardation
2 Up to 0.8 nm, 1% thereafter
3 Up to 1.5 nm, 1% thereafter
4 Maximum data collection speed. Sample XY scan time dependent on stage movement parameters.
5 Custom wavelengths available
6Spot sizes of less that 1 mm native require optional high resolution detector module
選項(xiàng):
* Additional Polarization Parameters
* 超高速掃描選項(xiàng)
* 光譜掃描測(cè)量和RGB測(cè)量
* 客戶(hù)定制內(nèi)置波長(zhǎng)選項(xiàng)（紫外/紅外）
* 手動(dòng)/自動(dòng)傾斜位移平臺(tái)裝置
* 定制樣品平臺(tái)加持誰(shuí)記
* 定制化顯示界面 (UI or DLL)
* 應(yīng)力計(jì)算評(píng)估軟件
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