詳細(xì)介紹
超低硅分析儀產(chǎn)品特點(diǎn):
靈敏:高選擇性檢測(cè)硅元素,檢測(cè)限達(dá)到0.6 ppm,是針對(duì)硅元素靈敏的X射線熒光光譜儀
穩(wěn)定:XFS(X-Ray Fixed System)技術(shù),光路工廠精密調(diào)諧后,不再產(chǎn)生位移或偏差,大限度的保證了儀器的*穩(wěn)定性。
5 ppm汽油樣品,*測(cè)試RSD值小于7%
快速:?jiǎn)蝹€(gè)樣品準(zhǔn)備時(shí)間小于10 s;單個(gè)樣品分析時(shí)間長(zhǎng)1000 s;開(kāi)機(jī)10 min內(nèi)即可測(cè)試樣品
經(jīng)濟(jì):?jiǎn)蝹€(gè)樣品消耗小于4元/樣品,無(wú)氣體、溶劑等消耗
方便:使用ESP:Easy Sample Prepare裝置,使得樣品杯與膜成型變得簡(jiǎn)單;長(zhǎng)時(shí)間使用無(wú)硬件更換;無(wú)需經(jīng)常校正標(biāo)準(zhǔn)曲線
性能指標(biāo):
檢出限:0.6 ppm(異辛烷基體中硅)
準(zhǔn)確度:2±0.6 ppm,5±0.8 ppm,10±1 ppm
穩(wěn)定性:5 ppm標(biāo)樣連續(xù)測(cè)試15次,RSD值10%以;同臺(tái)儀器15天以內(nèi)測(cè)試(每天兩次),RSD值15%以內(nèi)
線性:0、1、2、5、10、50 ppm硅標(biāo)樣,線性99.9%以上
測(cè)試時(shí)間:500 s—1000 s
超低硅分析儀應(yīng)用領(lǐng)域:
汽油、柴油樣品中硅含量分析,煉油企業(yè)催化劑中硅含量分析,液體或固體中硅含量分析。
汽油在煉制過(guò)程中使用了含硅的試劑或催化劑,這些硅化合物在汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)中無(wú)法*燃燒,時(shí)間一長(zhǎng)硅的沉積物會(huì)造成氧氣傳感器失效等故障,因此汽油中硅元素的檢測(cè)被列入
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)制定范圍之列。
針對(duì)硅元素的檢測(cè)儀器,主要有ICP和XRF兩種方法,相比于ICP方法,XRF方法使用方便,無(wú)需專(zhuān)業(yè)經(jīng)驗(yàn)人員即可操作使用,單波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀(MWD XRF)更具有高靈敏
度以及*穩(wěn)定性等特點(diǎn),是輕松應(yīng)對(duì)超低硅含量分析的利器。
依賴(lài)高通量雙向曲面彎晶核心技術(shù),進(jìn)一步提升制造工藝,保證光路系統(tǒng)的精密度,DUBHE-1430成為世界上真正能夠?qū)⒐铏z出限降低到1 ppm以內(nèi)的X射線熒光光譜儀。
ICP與MWD XRF(DUBHE-1430)比較表
比較項(xiàng) | ICP | MWD XRF(DUBHE-1430) |
原理 | 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 | 單波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀 |
消耗 | 高純氬氣、吹掃用高純氮?dú)狻⒕毓?,消耗約1000元/天 | 無(wú)需鋼瓶氣體 樣品杯與樣品膜,消耗4元/樣品 |
結(jié)果準(zhǔn)確性 | 影響因素:氣體純度、燃燒充分性、光柵移動(dòng)重復(fù)性、干擾元素共存譜線 | 只針對(duì)硅元素進(jìn)行高靈敏度檢測(cè),無(wú)任何元素譜線干擾 |
操作方便性 | 需要有經(jīng)驗(yàn)的操作人員,對(duì)測(cè)試數(shù)據(jù)有解析能力 | 使用方便,步驟簡(jiǎn)單,無(wú)需經(jīng)驗(yàn)即可操作,操作者對(duì)測(cè)量結(jié)果無(wú)影響 |
檢出限 | 硅方法檢出限~0.15 ppm | 硅方法檢出限~0.6 ppm |