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晶圓系列等離子清洗機(jī)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于晶圓處理。等離子清洗機(jī)是是適用于晶圓級(jí)和3D封裝應(yīng)用的理想設(shè)備。等離子應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、介電質(zhì)刻蝕、晶圓凸點(diǎn)、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。
等離子清洗機(jī)是用于典型的后道封裝前的晶圓加工的理想設(shè)備，也同時(shí)適用于晶圓級(jí)封裝、3D封裝、倒裝，以及傳統(tǒng)封裝。腔體設(shè)計(jì)和控制結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)更短的等離子循環(huán)時(shí)間和更低的成本，以大產(chǎn)量和經(jīng)濟(jì)的使用成本。
等離子清洗機(jī)支持自動(dòng)拾取和處理圓或方形晶圓/基板，尺寸范圍可以覆蓋到從75mm到300mm。另外，可以實(shí)現(xiàn)帶載體或不帶載體的薄片晶圓加工，具體應(yīng)用取決于晶圓厚度。
等離子腔體設(shè)計(jì)提供的刻蝕一致性和工藝重復(fù)性。等離子清洗機(jī)主要的應(yīng)用包括各種各樣的刻蝕、灰化、和減壓步驟。其它的等離子工藝包括污染去除、表面粗糙化、增加潤(rùn)濕性，以及提高焊接和粘接強(qiáng)度。
晶圓清潔 - 等離子清洗機(jī)用于在晶圓凸點(diǎn)工藝前去除污染，還可以去除有機(jī)污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。等離子也可以改善旋涂膜粘接和清潔金屬焊盤(pán)。
晶圓刻蝕 - 等離子系統(tǒng)預(yù)處理晶圓的殘留光刻膠和BCB，重新分配圖形介電層，線條/光刻膠刻蝕，應(yīng)用于晶圓材料的附著力增強(qiáng)，去除多余的塑封材料/環(huán)氧樹(shù)脂，增強(qiáng)金焊料凸點(diǎn)的附著力，晶圓減壓減少破碎，提高旋涂膜附著力，清潔鋁焊盤(pán)。
