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工業(yè)生產中的清洗概念很廣，包括任何與去除污染物有關的工藝，在不破壞材料表面特性的前提下，有效地清除殘留在材料上的微塵，有機雜物及金屬離子。
現等離子清洗機通過對樣品表面進行改性（親水性），同時除掉表面有機物，使多種材料之間能夠進行貼合、涂覆、鍍膜等工藝操作。從研究開發(fā)到工藝生產使用，從表面微細加工到表面處理改質效果都非常好，應用廣泛。
如今應用研究于物理化學清洗的方法，大致分為兩類：干法清洗和濕法清洗。隨著科技的發(fā)展，濕法清洗由于對環(huán)境的影響及原材料的消耗，越來越受到局限不適應于現代科技的高速發(fā)展，而干法清洗能夠避免濕法清洗帶來的環(huán)境污染，處理過程中無污染，無廢水產生，同時大大提高產品的生產率。
等離子體清洗機是一種全新的高新科技技術，在干法清洗中的優(yōu)勢尤為明顯。利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果，通過改變材料表面的物理結構或化學組分，使材料的性能得以顯著改善和提高，對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體清洗機處理材料后表面性能持久穩(wěn)定，保持時間長。
等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面改性設備就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現改性、清潔、涂覆、光刻膠灰化等目的。
◆ 等離子清洗機能處理的材料有：
金屬、PE、PP、PVF2、PVC、PT、LDPE、鐵氟龍等材料、連接器、線材、玻璃鏡片、汽車百葉窗和氖燈、鹵天燈的反光鏡處理等等，利用等離子清洗機對這些材料進行表面處理，在高速高能量的等離子體的轟擊下，這些材料結構表面得以大化，同時在材料表面形成一個活性層，這樣橡膠、塑料就能夠進行印刷、粘合、涂覆等操作。 用低溫等離子體清洗機在適宜的工藝條件下處理PE、PP、PVF2、LDPE等材料，材料的表面形態(tài)發(fā)生的顯著變化，引入了多種含氧基團，使表面由非極性、難粘性轉為有一定極性、易粘性和親水性，有利于粘結、涂覆和印刷。
◆ 等離子清洗機應用領域：
金屬---去除金屬表面的油脂,油污等有機物及氧化層
金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層，在進行濺射、油漆、粘合、健合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子處理來得到*潔凈和無氧化層的表面。
汽車制造---用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理
紡織品生產---用于紡織品,濾網和薄膜的親水性,疏水性和表面改性處理
生物醫(yī)療---培養(yǎng)皿提高活性，血管支架，注射器，導管和各種材料的親潤，交合涂覆前處理。
絕緣材料，電子元件等表面涂覆前處理
電子---線路板的清洗和蝕刻。膠片，PP等材料的無氧化和活化處理，改進可焊性
半導體行業(yè)---晶圓加工及處理去除光刻膠，封裝前預處理
LED---支架清洗封裝前預處理
塑料橡膠---提高PS，PE，PTFE，TPE，POM，AS和PP等材料表面活性，使其利于粘接，印刷。
◆ 灰化表面有機層
-表面會受到物理擊和化學處理
◆ 等離子清洗機廣泛用于：
1．等離子表面活化/清洗； 2.等離子處理后粘合； 3. 等離子蝕刻/活化； 4. 等離子去膠； 5. 等離子涂鍍(親水,疏水)； 6. 增強邦定性；
7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場合。
通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
等離子清洗機，英文叫（Plasma Cleaner）又叫等離子蝕刻機、等離子平面清洗機、等離子體清洗機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機/等離子處理設備廣泛應用于等離子清洗、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。
等離子清洗設備，是干法清洗中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體清洗的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被導入并與等離子體進行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應，反應的揮發(fā)性副產物被真空泵抽走。等離子體清洗機實際上便是一種反應性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應室的內部安裝成擱架形式，這種設計的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。
